판매용 중고 KLA / TENCOR M 300 #9226127

KLA/TENCOR M 300 Wafer 테스트 및 도량형 솔루션은 제조 및 공정 제어 어플리케이션을 위해 특별히 설계된 고급 광학 이미징 플랫폼입니다. 특허를 획득한 고유한 패턴을 활용해 양자전기신호 (quantum electrical signal from integrated wafer) 를 극도로 정확하고 정밀하게 측정한다. KLA M 300 플랫폼의 옵티컬 헤드 (Optical Head) 및 스텝 모터 구동 (Step Motor Driven) 스테이지는 광범위한 결함 수준에서 대용량 측정 및 고해상도 이미징을 지원합니다. 이를 통해 장치 성능에 부정적인 영향을 줄 수있는 미세 결함 및 오염 물질 (예: 먼지, 공백) 을 정확하게 검색 할 수 있습니다. 또한 리소그래피 프로세스가 IC 의 장치 계층 (들) 에 영향을 미칠 때 발생할 수 있는 프로세스 통합 영향을 감지할 수 있습니다. 이 시스템의 이미징 기능에는 ADC (Automatic Defect Classification) 및 I&R (Inspection & Review) 기능이 포함되어 있어 획득한 이미지/데이터를 신속하고 포괄적으로 검토하고 전송할 수 있습니다. 이 장치는 10nm 크기의 결함을 감지 할 수 있으며 3nm 이하까지 반복 할 수 있습니다. 또한, 이 플랫폼은 모듈성이 뛰어나 다중 채널 옵티칼헤드 (opticalhead) 와 최첨단 풀 필드 이미징 (full field imaging) 을 사용할 수 있습니다. TENCOR M 300 플랫폼에는 CoAr 및 이중 패턴 응용 프로그램과 같은 여러 장점도 포함되어 있습니다. CoAr 애플리케이션은 빠른 테스트 시간, 스캐닝 (scanning) 을 통해 프로세스 통합 영향 및 미세 결함을 감지할 수 있습니다. 이는 처리량 및 비용 절감 증가와 같습니다. 이중 패턴 적용 프로그램은 자동화된 2 채널 결함 감지 기술로, 별도의 2 개의 영역을 사용하여 단일 웨이퍼를 검사합니다. M 300의 출력은 KLA AMPLEX 소프트웨어에 의해 관리되며, 모든 이미지와 관련 데이터를 처리, 저장하므로, 빠르고 쉬운 기준선 비교가 가능합니다. 또한, 이 플랫폼은 간편한 유지 관리를 위해 설계되었으며, 빠르고 경제적으로 업그레이드할 수 있습니다. KLA/TENCOR M 300 Wafer 테스트 및 도량형 솔루션은 모든 환경에서 안정성, 신뢰성, 정확성 및 정확성을 제공하는 최첨단 시스템입니다. 업계 최고의 기술과 성능을 자랑하는 '제조 능력 (Manufacturability)' 과 프로세스 제어를 위한 완벽한 툴입니다.