판매용 중고 KLA / TENCOR HRP 220 #9276589
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ID: 9276589
Surface profiler
Maximum scan length: 205 mm
Measurement head with UltraLiteTM sensor:
Vertical range: 0-130 um
Stylus force: 0.05-10 mg
Constant stylus force control
Top view dual-magnification optics:
Black and white camera
L-Stylus: 2 um
Radius: 60°
Dual-stage system:
Sensor stage with 1 nm resolution
Long range sample stage with 205 mm scan length
Motorized level and rotation
Wafer handler:
Dual 200 mm cassette position (100 mm / 125 mm / 150 mm)
With locator
Flat / Notch orientation finder
Integrated vibration isolation system
PC Minimum configuration:
Pentium III Processor: 650 MHz
RAM: 128 MB
Hard drive: 80 GB
Ethernet network adapter card
LCD Monitor, 17"
Floppy disk drive, 3.5" (1.4MB)
Operating system: Windows NT
SECS / GEM Interface.
KLA/TENCOR HRP 220은 반도체 제조 과정에서 실리콘 웨이퍼에서 박막 층의 광학, 전기, 구조적 특성을 측정하고 평가하기 위해 설계된 웨이퍼 테스트 및 도량형 시스템입니다. 광학 산란 측량 기술 (Optical Scatterometry Technology) 은 통합 활성 플랫폼과 결합하여 다양한 파장, 각도, 깊이에 걸쳐 웨이퍼 표면의 정확하고 고해상도 측정을 제공합니다. KLA HRP220에는 5 개의 파장 레이저와 정밀 모션 제어를 위해 고정밀, 중량 시트 모터가 장착되어 있습니다. 벡터 레이저 산란계는 저소음 사진 다이오드 배열과 결합 된 고대역폭 주파수 2 배 네오디뮴 도핑 이트륨 알루미늄 가넷 레이저 (Nd: YAG) 를 특징으로하여 모든 파장에서 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 고급 광학 장치 (Advanced Optics) 는 처리량을 향상시키는 반면, 광학 경로를 이동하는 기능은 수동 입력 (Manual Entry) 이나 이동 (Move) 없이 다른 웨이퍼 부분을 측정할 수 있음을 의미합니다. TENCOR HRP-220은 또한 굴절률, 광학 침투, 산란기, 표면 거칠기 등 다양한 특성을 측정 할 수 있으며, 실리콘 질화물, 폴리 실산 유리, 알루미늄 옥시 니트 라이드와 같은 다른 물질의 비 파괴적인 테스트 층을 측정 할 수 있습니다. 통합 활성 플랫폼은 전기 테스트 시스템 (Electrical Testing System), 가변 광학 테이블 (Variable Optical Table) 및 전용 사용자 인터페이스 (Dedicated User Interface) 로 구성되며, 모두 단일 위치에서 제어되고 사용자에게 웨이퍼 테스트 및 도량형 프로세스를 완벽하게 제어할 수 있도록 설계되었습니다. HRP 220 소프트웨어 (HRP 220 소프트웨어) 는 다양한 기능과 옵션을 제공하므로 데이터를 빠르고 쉽게 분석, 평가할 수 있습니다. 각 모듈은 웨이퍼 (wafer) 의 다양한 특성을 측정 및 분석하기 위해 설계된 여러 모듈 (module) 과 데이터 활용도 향상을 위해 일반적으로 사용되는 템플릿 라이브러리 (library) 를 갖추고 있습니다. 또한 고급 그래픽 처리 기능을 제공합니다. 즉, 복잡한 데이터를 시각화하고 분석하는 데 이상적입니다. KLA/TENCOR HRP-220은 종합적인 기능을 통해 웨이퍼의 구조적, 기능적 특성, 연구 및 개발 활동 지원, 또는 생산 재사용에 사용되는 것을 빠르고 정확하게 테스트 및 분석 할 수 있습니다.
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