판매용 중고 KLA / TENCOR Alpha Step 200 #9315702

KLA/TENCOR Alpha Step 200 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비는 광범위한 반도체 및 MEMS 응용 프로그램에 대해 정확하고 안정적인 측정을 제공하도록 설계되었습니다. KLA ALPHASTEP 200은 KLA Advanced Vision 소프트웨어 지원 알고리즘과 광학 시스템을 사용하여 작고 사용하기 쉬운 패키지에서 탁월한 정확성과 속도를 제공합니다. 이 시스템은 특허를 획득한 비접촉 (non-contact) 방식으로 웨이퍼를 검사하여 CD (critical dimension), 오버레이 마크 오프셋 (overlay mark offset) 과 같은 중요한 매개변수의 빠르고 신뢰할 수 있는 측정과 표면 처리 웨이퍼의 공간 및 시간 반응이 가능합니다. TENCOR ALPHA-STEP 200은 CCD (Integrated Charge Coupled Device) 검출기와 정밀 턴테이블에 장착 된 여러 검출기를 사용하여 넓은 시야를 제공합니다. 또한이 장치는 높은 수치 조리개 (NA) 광 설계를 갖추고 있으며 다중 파장 및 다중 수정 조명을 제공합니다. 고급 비전 (Advanced Vision) 알고리즘을 통해 기계는 매우 높은 해상도로 패턴을 감지하고 분별할 수 있으며, 측정값은 0.5 나노 미터입니다. 이렇게 하면 얇은 필름 서피스와 굵은 필름 서피스를 모두 안정적이고 정밀하게 측정할 수 있으며, 포토레지스트 선 (photoresist line), 컷 (cut), 예리한 코너 (sharp corner) 와 같은 구조 피쳐를 보다 잘 감지하고 분리할 수 있습니다. 이 자산은 다양한 기능과 옵션을 제공하며, 다양한 테스트/도량형 (metrology) 요구 사항에 맞게 맞춤형으로 구성할 수 있습니다. 여기에는 스캐닝 확대/축소 (scan magnification), 단계 크기 (step size) 및 현장 크기 (field size) 를 제어하기 위한 다양한 옵션이 포함되어 있습니다. 또한 ALPHASTEP 200 에는 일련의 소프트웨어 제어 자동화 기능이 장착되어 있어 높은 처리량과 효율적인 테스트가 가능합니다. 요약하면, TENCOR ALPHASTEP 200 웨이퍼 테스트 및 도량형 모델은 반도체 및 MEMS 응용 프로그램의 중요한 매개변수와 구조 기능을 빠르고 안정적으로 측정하도록 설계되었으며, 전례없는 수준의 정확성과 속도를 제공합니다. 고급 비전 (Vision) 소프트웨어 지원 알고리즘과 고해상도 CCD (High-Resolution CCD) 탐지기를 통해 장비는 하위 미크론 수준에서 패턴을 안정적으로 감지하고 식별할 수 있으며, 높은 처리량과 효율적인 테스트를 위한 자동화를 지원합니다.