판매용 중고 KLA / TENCOR Alpha Step 200 #9124963
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ID: 9124963
Profilometer vertical measurement system
Ranges: auto ranging up to +/- 160 KA or 160 um –20 to 50 A,
Resolution: Vertical: 5A with +/- 160 KA 400 A
Stylus radius standard: 12.5 um or 5.0 um
Stylus tracking force adjustable between 1 and 25 mg
Precision X-Y stage X-Axis 100 mm Y-Axis 81 mm Z-Axis 21 mm
Largest sample size 162 mm.
KLA/TENCOR Alpha Step 200은 반도체 제조를 위해 설계된 고급 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. 클라이 알파 스텝 200 (KLA ALPHASTEP 200) 은 정확성과 정확성, 통합 자동화, 광범위한 데이터 분석 기능을 통해, 제조업체가 다양한 프로세스에 걸쳐 최고의 수준의 장치를 유지해야 하는 업계 최고의 분석 기능을 제공합니다. TENCOR ALPHA-STEP 200 (TENCOR ALPHA-STEP 200) 에는 작은 피쳐나 복잡한 결함을 정확하게 측정할 수있는 상세한 웨이퍼 맵이 포함되어 있으며, 이는 생산 오류를 신속하게 식별하고 수정하는 데 사용할 수 있습니다. TENCOR ALPHASTEP 200에는 웨이퍼를 동시에 보고, 이동하고, 스캔 할 수있는 2 축 이중 위치 3 차원 스테이지가 있습니다. 스테이지의 정확도와 정확도는 작은 피쳐, 결함 및 기타 특성을 측정하는 데 이상적입니다. 스테이지 (Stage) 는 또한 고속 CMP 측정을 수행 할 수 있으며, 이는 웨이퍼 표면에서 작은 변형을 감지하는 데 유용합니다. KLA/TENCOR ALPHASTEP 200에는 고해상도 이미징 시스템이 포함되어 있어 웨이퍼의 넓은 영역을 정확하게 분석 할 수 있습니다. 또한, 이 단위는 새로운 딥 러닝 알고리즘을 사용하여 다양한 유형의 결함을 자동으로 식별하고 분류합니다. KLA ALPHA-STEP 200에는 고급 데이터 분석 및 제어 기능을 지원하는 포괄적인 소프트웨어 제품군도 포함되어 있습니다. 이 소프트웨어에는 강력한 교정 도구가 포함되어 있습니다. 이 도구를 사용하면 웨이퍼 (wafer) 테스트 및 도량형 (metrology) 작업 설정을 조정하고 정확한 결과를 유지할 수 있습니다. ALPHASTEP 200에서 생성된 데이터는 프로덕션 트렌드를 추적하고 프로덕션 프로세스를 최적화하는 데 사용될 수 있습니다. 또한, 소프트웨어는 상세한 보고서와 그래픽을 생성할 수 있으며, 이를 통해 데이터를 더욱 분석하고 제조 (manufacturing) 문제를 파악할 수 있습니다. 전반적으로 ALPHA-STEP 200은 최첨단 웨이퍼 테스트 및 도량형 기계입니다. 정확하고 정확한 포지셔닝 (positioning) 및 이미징 시스템 (Imaging System) 은 물론, 광범위한 소프트웨어 기능을 통해 다양한 프로세스에 걸쳐 고품질 디바이스를 유지하는 데 필수적입니다. 또한 이 도구의 상세한 웨이퍼 맵 (wafer map), 자동화된 결함 감지 및 분류, 고급 보고 (advanced reporting) 기능을 통해 제조업체는 운영 문제를 신속하게 파악하고 해결할 수 있습니다.
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