판매용 중고 KLA / TENCOR Alpha Step 100 #9016122
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ID: 9016122
Profilometer / Surface profiler
Scan unit:
Model number: 10-00020
Controller unit:
Model number: 10-00030
Power requirements: 117 V - 60 Hz
Features:
Automatic leveling
Measurements completed in less than 1 minute
1,000 Å full-scale
No shock isolation required
Mechanical, electronic and thermal stability
Specifications:
Measurement ranges (full-scale deflection): 1,000 å, 2,500 å, 5,000 å, 10 kå, 25 kå, 50 kå, 100 kå, 250 kå, 500 kå, 1,000 kå
Resolution: 10 å (minimum detectable step)
Auto zero: Recorder automatically starts at any preset level
Horizontal magnification / scan speed / recorder speed:
50 x / 0.1 mm/sec 5 mm/sec
500 x / 0.01 mm/sec / 5 mm/sec
2500 x / 0.01 mm/sec / 25 mm/sec
Scan length: 3 mm in either direction (6 mm total)
Stylus: diamond 12.5 µ radius standard
Tracking force: Factory-set 15-18 mg (1 mg minimum)
Sample stage dimension: 190 mm (7.5") w x 127 mm (5") deep
Sample stage movement:
X-axis: 3 mm (12")
Y-axis: 48 mm (1.9")
Z-axis: 11 mm (46") plus (vertical) stylus lift
Throat depth: 65 mm (2.54") allowing measurement anywhere on a 125-mm (5") Dia wafer
Maximum acceptable sample thickness: 11 mm (46")
Operational modes:
Automatic leveling and scan
Manual leveling and scan
Automatic leveling and manual scan
Optics: Non-inverted image, 22x magnification
Illumination: Light-emitting diodes
Chart recorder:
Type: Thermal printing
Chart speeds: 5 and 25 mm/sec
Chart size: 5 cm (2") Continuous roll
Linearity: ±1% full-scale
Max drift vs temperature: 0.5 division/10°c
Max drift vs time: 0.1 division/8 hrs
Dimensions:
Scan unit: 208 mm (8.2") w x 226 mm (8.9") h x 422 mm (16.6") d
Control unit: 216 mm (8.5") w x 125 mm (4.9") h x 394 mm (15.5") d
Weight:
Scan unit: 7.7 kg (17 lbs)
Control unit: 6.4 kg (14 lbs).
KLA/TENCOR Alpha Step 100은 나노미터 스케일 기능의 비파괴 광학 측정 및 3D 지형에 사용할 수있는 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. 이 시스템은 장치 구조, 다중 패턴 레이어 필름 두께, 반도체 웨이퍼 및 기타 기판의 임계 치수를 정밀하게 측정 할 수 있습니다. KLA Alpha Step 100은 스캐닝 터널링 현미경 (STM) 과 쿼드 셀 간섭계 (QCI) 를 사용하여 다양한 매개변수를 정확하게 측정합니다. STM은 진공 환경에서 작동하며 나노 미터 (nanometer) 수준의 정밀도를 가진 표면 피쳐의 영상을 허용합니다. QCI는 웨이퍼 표면의 3D 지형 기능 외에도 나노 미터 레벨 필름 두께를 측정합니다. 이 장치는 또한 2.5 나노 미터 이미지 해상도로 표면의 3D 이미지를 캡처하는 비 접촉 표면 프로파일로미터를 자랑합니다. 프로파일로미터 (profilometer) 는 서피스 거칠기와 같은 재료 특성 외에도 지형 및 서피스 데이터를 모두 수집합니다. TENCOR 알파 스텝 100 (Alpha Step 100) 은 가장 미묘한 결함까지도 감지 할 수 있으며 웨이퍼 측정 및 인쇄 검사에 대한 최고 수준의 정확도를 제공합니다. 이 프로그램에는 과잉 (over-and under-exposure) 및 과소 노출 (under-exposure) 문제를 모두 감지 할 수있는 고급 단계 전환 분석 프로그램이 있습니다. 머신에는 임계 치수를 측정하고 라인 너비, 라인 모서리 거칠기, 선/공간 너비 변형, 레이어 간 오버레이 (overlay) 를 지정하는 분석 패키지도 포함되어 있습니다. 알파 스텝 100 (Alpha Step 100) 은 프로세스 모니터링 및 항복 분석과 같은 추가 응용 프로그램을 위해 측정 도구와 통합 될 수 있습니다. 또한, 이 도구는 자동 조절 (autostage) 기능과 함께 사용하여 높은 처리량을 테스트할 수 있습니다. 에셋에는 또한 컴퓨터가 제어하는 광학 헤드가 장착되어 있어 비접촉 다중 샘플 정렬 및 측정이 가능하며, 단일 패스에서 고정밀 (high-precision) 테스트를 가능하게 합니다. 이 모델은 평면 또는 웨이퍼 레벨 초점 교정이 필요 없는 3D 지형 이미징을 가능하게 합니다. 이는 도구 간 (tool-to-tool) 및 프로세스 실행을 통한 웨이퍼 검증 (wafer qualification) 및 모니터링 프로세스 (monitoring process drift) 모두에 중요합니다. 또한, KLA/TENCOR Alpha Step 100은 프로그래밍 가능한 웨이퍼 단계를 특징으로하며, 여러 샘플은 서로 다른 다이 크기에 대한 처리량과 정확성을 최적화하여 반도체 웨이퍼 테스트에 매우 유용합니다.
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