판매용 중고 KLA / TENCOR 5200XP #9241362

KLA/TENCOR 5200XP는 반도체 제조에서 생산량 향상, 비용 절감, 프로세스 제어 향상 등을 위해 설계된 고급 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. 소프트웨어 패키지와 결합된 KLA 5200XP는 결함 분류, 웨이퍼 매핑 (wafer Mapping) 및 입자 사이징을 위한 다양한 솔루션을 제공합니다. TENCOR 5200 XP는 KLA Scanning Laser Imaging Microscope (SLIM) 설계를 기반으로합니다. 이 시스템은 광학 레이저 헤드 (Optical laser head) 를 사용하여 샘플을 스캔하고, 기계적 단계를 사용하여 샘플을 이동합니다. SLIM은 라인 스캔 솔루션과 드롭 스캔 솔루션으로 구성되어 있으며, 이를 통해 KLA 5200 XP는 FIB (Focused Ion Beam) 이미지와 광학 이미지에 가장 적합한 솔루션을 제공할 수 있습니다. CCD 카메라, 이미지 프로세서, 이미지 수용체 (Image Receptor) 세트가 모두 장치에 포함되어 정확한 데이터 획득 및 분석이 가능합니다. 5200XP는 또한 편광, 투과광, 형광등, 경사각 이미징 등 여러 가지 이미징 모드를 갖추고 있습니다. 이를 통해 사용자는 다양한 이미징 솔루션을 제공하여 결함 분류, 웨이퍼 매핑 (wafer mapping), 입자 크기 (particle sizing) 를 더 잘 이해할 수 있습니다. TENCOR 5200XP는 최대 8.5 인치 웨이퍼를 측정하여 주기 시간을 줄일 수 있습니다. 이 기계는 또한 빠른 패턴 인식 (pattern recognition) 기능을 통해 웨이퍼의 가변 결함을 빠르고 정확하게 감지할 수 있습니다. 추가 자동 프로세스에는 임베디드 알고리즘을 사용한 결함 분류 및 패턴 인식 소프트웨어가 포함됩니다. 이 KLA/TENCOR 5200 XP는 사용자에게 데이터 분석을 위한 사용자 친화적 소프트웨어를 제공합니다. 또한 5200 XP는 웨이퍼 매핑, 결함 정렬 등 다양한 소프트웨어 패키지를 지원합니다. 이를 통해 사용자는 결함 분류, 입자 최적화 및 수율을 더욱 통제할 수 있습니다. 또한 KLA/TENCOR 5200XP는 사용자가 프로세스를 개선하고, 새로운 문제를 감지하고, 가능한 솔루션을 식별할 수 있도록 자동 통계 분석 도구를 제공합니다. 마지막으로, KLA 5200XP는 추적 가능성 자산 (Traceability Asset) 을 지원하므로 변경 사항과 프로세스 상태를 모니터링할 수 있습니다. 이 기능은 특히 프로세스 안정성, 생산량 및 전반적인 제품 품질을 향상시키는 데 유용합니다. 결론적으로 TENCOR 5200 XP는 종합적인 웨이퍼 테스트 및 도량형 모델입니다. 즉, 반도체 제조에서 생산량을 향상시키고, 비용을 절감하고, 프로세스 제어를 향상시킬 수 있도록 설계되었습니다. 이 장비에는 다양한 기능이 제공되어 결함 분류 (Defect classification), 웨이퍼 매핑 (Wafer Mapping), 입자 크기 조정 (Particle Sizing) 에 대한 더 나은 통찰력을 얻을 수 있습니다.