판매용 중고 KLA / TENCOR 5200XP #9214648

KLA/TENCOR 5200XP는 반도체 생산에서 도량형 및 검사 응용 모두를 위해 설계된 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. 높은 정확도와 높은 처리량 솔루션을 모두 지원하는 KLA 5200XP 시스템을 통해 수율과 신뢰성을 높일 수 있습니다. 이 장치는 비행 시간 2 차 전자 (time-of-flight secondary electrons) 및 역산포 전자 (backscattered electron) 와 같은 고급 이미징 기술을 사용하여 우수한 해상도 이미징 및 고감도 결함 감지를 제공 할 수 있습니다. 또한, 탈 진화 알고리즘은 작은 기능과 결함을 식별하는 기능을 제공합니다. 스텝 (step), 스캔 (scan), 이미지 스티칭 (image stitching) 과 같은 자동화된 정렬 및 이미징 기능을 사용하면 시스템이 이미지에 필요한 전체 영역을 줄일 수 있지만 사용자 상호 작용이 줄어듭니다. 또한 TENCOR 5200 XP에는 자동 결함 분류 알고리즘 (Automated Defect Classification Algorithm) 및 참조 설계 라이브러리 (Library of Reference Design) 와 같이 이미지 분석을 향상시키는 다양한 기능이 포함되어 있으며, 이를 통해 사용자가 알려진 표준과 결과를 정확하게 비교할 수 있습니다. 또한, 광학 검사 시스템 및 1 단계 결함 분석 시스템과 같은 다른 시스템과의 상호 작용을 통해, KLA 5200 XP는 결함 분석을 위해 보다 통합되고 효율적인 워크플로를 제공합니다. 이 도구는 임계 치수, CD 균일성, 오버레이 정확도, 선 평면도 등 다양한 응용 프로그램에 대한 도량형 솔루션을 추가로 제공 할 수 있습니다. 또한 레이저 간섭법 (Laser interferometry) 을 통합하여 프로세스 변형으로 인한 피쳐 임계 치수 (feature critical dimension) 및 레이어 높이 (layer height) 의 극적인 변화를 측정할 수 있습니다. KLA/TENCOR 5200 XP도 다중 단계 자동화를 통해 자산이 높은 정밀도와 정확도로 웨이퍼 (wafer) 에서 웨이퍼 (wafer) 로 이동할 수 있습니다. 5200XP는 우수한 해상도의 이미징 (Imaging), 고급 결함 감지 알고리즘 (Advanced Defect Detection Algorithms) 및 자동화 기능의 조합으로 다양한 어플리케이션의 도량형 및 검사 모델이되었습니다. 다른 시스템과 상호 작용하는 기능을 통해 웨이퍼 (wafer) 의 전체 수율과 신뢰성을 향상시키는 효율적이고 통합된 워크플로우 (workflow) 를 확보할 수 있습니다.