판매용 중고 KLA / TENCOR 5100 #9351407

KLA/TENCOR 5100 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비는 마이크로 일렉트로닉 회로 제조 산업 내에서 품질 관리 및 프로세스 제어를 제공하기 위해 설계된 다재다능한 플랫폼입니다. 이 시스템에는 와퍼의 임계 크기 (critical dimensions) 와 피쳐 크기 (feature size) 를 정확하게 측정하기 위해 최첨단 옵틱이 장착되어 있습니다. 자동 도량형 (automated metrology) 모듈을 통합하여 고해상도로 웨이퍼 내의 복잡한 패턴을 신속하게 분석하여 처리량이 높고 프로세스 제어를 안정적으로 수행할 수 있습니다. 클라 5100 (KLA 5100) 은 플라즈마 에치 (Plasma Etch) 개발 웨이퍼 및 저항층 등 다양한 기판의 패턴을 검사하기 위해 자동화된 광학 현미경을 사용한다. 고해상도 탐지기 (high resolution detector) 와 피트와 보이드 (void) 와 같은 작은 결함을 식별하는 정교한 소프트웨어와 정확한 현미경 측정이 특징입니다. 이 도구의 MEMS (Micro-Electro-Mechanical Machine) 테스트 헤드를 사용하면 웨이퍼의 특정 샘플에서 전기 신호를 빠르고 정확하게 조사하고 테스트 할 수 있습니다. 이 MEMS 기술은 집적 회로의 기능 및 전기 특성을 정확하게 측정하는 데 사용됩니다. TENCOR 5100은 또한 웨이퍼 표면의 두께, 반사율 및 지형을 측정하는 멀티 센서 에셋 (multi-sensor asset) 과 화학 기계 연마 기술로 생성 된 표면의 균일성을 테스트하는 CMP (chemical-mechanical polishing) 옵션을 제공합니다. 또한이 모델은 광학 산란계를 통합하여 레이어 두께의 균일성을 측정하고, 웨이퍼 표면의 미세한 불규칙성을 분석하는 NUSM (Non-Uniformity-of-Surface Measurement) 도구를 사용합니다. 5100은 1mm 미만에서 최대 450mm 사이의 다양한 치수에 걸쳐 웨이퍼를 테스트 할 수 있습니다. 데이터 분석 측면에서, 장비를 사용하여 프로세스 제어 차트 (process control chart) 와 값을 생성하여 시간이 지남에 따라 프로세스 안정성을 측정할 수 있습니다. 또한, 이 시스템은 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 제공하며, 이는 반도체 산업 내에서 연구 개발 애플리케이션을 개발하는 데 이상적입니다. KLA/TENCOR 5100 웨이퍼 테스트 및 도량형 장치 (Metrology Unit) 는 반도체 업계에 높은 처리량, 정확한 측정, 안정적인 프로세스 제어를 제공하도록 설계된 다용도 플랫폼입니다. 이 제품은 웨이퍼 (wafer) 의 복잡한 패턴과 전기적 특성을 분석하고 프로세스 제어에 필요한 정량적 (quantitative) 데이터를 제공하기 위한 다양한 최첨단 기술을 갖추고 있습니다. 이 기계는 1mm 미만에서 450mm 사이의 웨이퍼 치수를 측정 할 수 있으며, 다양한 기판을 분석하기에 이상적인 선택입니다.