판매용 중고 KLA / TENCOR 5100 #9293246

KLA/TENCOR 5100은 반도체 산업의 고순도 기판 생산을 개선하기 위해 설계된 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. 이 고급 자동 시스템 (Advanced Automated System) 은 기판의 순도 (Purity) 를 정확하게 측정하고 평가하도록 설계된 일련의 프로세스와 시스템을 구현합니다. KLA 5100 장치는 레이저 보조 스캐닝 시스템을 사용하여 기판 기능의 고정밀 측정을 확인합니다. 또한, 전자빔을 사용하여 10 나노미터의 작은 기능을 감지하는 고급 비 파괴 테스트 머신이 있습니다. 이 도구는 측정 정확성과 테스트 결과의 정확성을 보장하기 위해 자동 교정 (automated calibration) 기능을 제공합니다. TENCOR 5100 자산의 또 다른 기능은 AOI 도구와 고급 결함 검사 (advanced defect inspection) 알고리즘의 조합을 활용하여 프로세스 이상을 감지하는 독점 결함 감지 모델입니다. 장비는 또한 여러 기판을 동시에 추적하여 전달 된 결과의 정확성을 보장 할 수 있습니다. 시스템 성능을 최적화하기 위해 5100은 테스트 레시피를 빠르고 효율적으로 변경할 수 있는 DRA (Dynamically Reconfigurable Automation) 플랫폼을 구현합니다. 또한 이 플랫폼은 다양한 크기 (size) 와 양의 테스트 데이터 (test data) 를 지정하여 프로세스 요구에 맞게 테스트 조건을 조정할 수 있습니다. 또한 이 장치는 이더넷 (Ethernet) 또는 USB (USB) 를 통해 시스템의 현장 제어를 포함한 다양한 인터페이스를 지원합니다. 또한 KLA/TENCOR 5100 도구는 고해상도 이미징을 위해 설계되었습니다. 이 자산은 표준 반사, 도량형 또는 어두운 필드 조명 모드에서 기판의 고해상도 이미지를 제공합니다. 또한 CCD 형식 또는 5000 픽셀 시리즈 스캔도 지원합니다. 또한, 이미지 처리 기능을 통해 여러 이미지를 스티칭하고 한 장의 비전 (vision) 타겟에 스티칭할 수 있습니다. 먼지 및 오염 민감도를 향상시키기 위해 모델에는 이중 레벨 입자 식별 (Dual Level Particle Identification) 이 포함되어 있으며, 이를 통해 입자를 정확하게 식별하고 분류 할 수 있습니다. 이 장비에는 유연한 검사 경로를 제공하는 다축도 (multi-axis stage) 가 있으며, 자동화된 태도와 프로세스 제어 시스템 (process control system) 이 장착되어 있습니다. 전체적으로, KLA 5100 장치는 자동 교정과 함께 정교한 도량형 및 결함 감지 기능을 제공하여, 고순도 기판 생산을 위해 성능을 최적화합니다. 고급 이미징 및 입자 식별 시스템 (Advanced Imaging and Particle Identification Systems) 은 하이엔드 반도체 산업을 위한 강력한 선택입니다.