판매용 중고 KLA / TENCOR 5100 #293630321

ID: 293630321
Overlay measurement and inspection system Spares included.
KLA/TENCOR 5100은 반도체 생산, 연구 및 개발을 위해 베어 (bare) 및 패턴 (patterned) 웨이퍼에서 중요한 장치 크기를 측정하도록 설계된 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. 고급 이미징 기술을 사용하여 샘플의 표면 지형 데이터 (surface topography data) 를 캡처하고 다양한 분광 기술 및 고속 광학 검사를 통해 다이/온-웨이퍼 (in-die/on-wafer) 결과를 얻습니다. KLA 5100 은 비파괴적, 비접촉적 (non-contact) 방식으로 작동하며, 고해상도 이미징 기술을 활용하여 재료를 최소화하면서 정확하고 반복 가능한 측정 결과를 산출합니다. 이 시스템은 일반 광학 현미경 기술보다 시야가 넓은 진정한 8 인치 조리개 스캐닝 (aperture scanning) 을 제공하여 검사 주기를 줄여 더 많은 데이터를 캡처할 수 있습니다. 고속 광 검사 (Optical Inspection) 기능을 통해 제품 개발을 가속화하고 Ramp의 노력을 높일 수 있습니다. TENCOR 5100은 웨이퍼 및 다이 레벨 데이터를 모두 분석함으로써 웨이퍼 재료, 기능, 결함, 테스트 주사위 및 다이-투-다이 균일성의 빠른 특성을 제공합니다. 또한, 다이 내 도량형 기능을 통해 다이 구조를 지역화 된 특성화하여 기능을 평가할 수 있습니다. 이 장치에는 자동화된 기능 추출 및 분석을 위해 특허받은 패턴 인식 엔진 (pattern recognition engine) 이 장착되어 있습니다. 이 엔진은 장치 또는 다각형의 이미지를 처리하여 물리적 크기, 형태, 위치 지정 (positioning) 과 관련된 다양한 도량형 데이터를 추출합니다. 강력한 입자 분석 도구 (particle analysis tools) 는 고급 이상 감지 알고리즘을 사용하여 연구 노력, 입자 감지 및 기타 어려운 기능을 지원합니다. 5100 은 다양한 예제 환경과 애플리케이션을 지원하는 특정 고객 요구 사항을 충족하도록 맞춤형으로 구성할 수 있습니다 (영문). 무료 스탠딩 머신은 웨이퍼 정렬, 엔지니어링, 학술 및 연구 실험실에 적합합니다. 또한 자동화된 프로세스 (automated process) 또는 수동 프로세스 (manual process) 의 일부로 기존 프로덕션 프로세스 라인에 통합할 수 있습니다. KLA/TENCOR 5100 의 무중단, 고속 이미지 처리 및 데이터 분석 기능과 다목적, 컴팩트한 설계를 통해 최첨단 웨이퍼 (wafer) 테스트 및 도량형을 선택할 수 있습니다. 이 툴을 사용하면 정확하고, 실행 가능한 데이터를 제공하여 주기 시간을 줄이고, 비용을 절감할 수 있습니다. 즉, 최첨단 반도체 연구/운영 애플리케이션이 가능합니다.
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