판매용 중고 KLA / TENCOR 4500 SURFSCAN #9411440
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ID: 9411440
웨이퍼 크기: 2"-6"
Wafer inspection system, 2"-6"
High angle optics
Non-patterned surface inspection system
Surface polisher: 0.025 %
Submicron sensitivity: Detects 0.2 micron particles
Surface haze sensitivity: Detects 0.4 PPM
Scattering cross-section: < 0.5 micron² per 50 passes
High scattering surface:
Metals
Polysilicon
CVD Films.
KLA 4500은 최고의 프로세스 제어, 측정 정확성 및 반복 성을 제공하는 최첨단 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. 4500은 오늘날의 첨단 기술 기판에서 중요한 표면을 평가, 측정하는 포괄적인 솔루션을 제공하며, 와퍼 (wafer) 생산 라인에서 높은 수준의 품질 제어를 보장하는 고급 결함 감지 (defect-detection) 기능을 제공합니다. 4500은 SEM (Scanning Electron Micrology) 도량형, 광학 이미지 분석, 검토 편집 및 반도체 산업에 대한 고급 결함 검사, 자동 웨이퍼 검사 및 샘플에서 샘플까지 측정 할 수있는 샘플 전용 소프트웨어 등 일련의 프로세스 제어 옵션을 결합합니다. 4500은 기판에서 임계 레이어에 대한 빠르고 정확한 분석 (고급 패턴 웨이퍼 포함) 을 제공하도록 설계되었습니다. 복잡한 3D 나노 스케일 구조; 게이트 및 트림과 같은 마스크 레이어; 그리고 특별한 영화 스택. 고해상도 이미징 (High Resolution Imaging) 과 초소형 결함을 ± 1 nm 이내로 감지하고 매핑 할 수있는 특수 알고리즘을 통해이를 달성합니다. 이 시스템은 빠르고 자동화된 분석 (analysis) 기능을 통해 제조업체가 신속하게 문제를 파악하고 해결할 수 있게 해 주는 한편, 자사 제품에 대한 종합적인 평가도 제공합니다 (영문). 4500에는 다양한 기능이 포함되어 있어 빠르고 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 여기에는 다음이 포함됩니다: 전체 표면 지형의 세부 시각화를 허용하는 고해상도 이미징 기능; 주사 전자 현미경 (SEM) 이미지를 분석하는 여러 신호 프로세서; 이미징 결과를 샘플과 비교하는 데 사용되는 복합 데이터 알고리즘 (complex data algorithms) 은 결함을 측정하거나 웨이퍼의 다른 특성을 결정하는 데 사용됩니다. 또한 4500에는 특허 된 MDMVA (mandrel-shaped defect measurement and visualization algorithm) 기능이 포함되어 있는데, 이는 측정하기 어려운 결함을 신속하게 감지, 분류 및 정량화하는 데 사용됩니다. 4500은 또한 개선 된 수율 (Yield) 과 짧은 주기 시간 (Cycle Time) 을 포함하여 제조에 필요한 다양한 혜택을 제공합니다. 이는 자동 웨이퍼 테스트 (automated wafer testing) 및 도량형 장치 (metrology unit) 의 데이터 분석에 의해 활성화되며 프로세스 및 매개변수를 최적화하는 데 사용할 수 있습니다. 이 기계를 통해 제조업체는 프로세스 추세를 신속하게 분석하고, 처리량을 극대화하고, 최고 품질의 기판을 확보할 수 있습니다. 전체적으로, TENCOR 4500은 웨퍼 테스트 및 도량형을 위한 안정적이고 비용 효율적인 솔루션입니다. 오늘날의 첨단 기술 기판에서 중요한 표면을 측정하기 위한 뛰어난 속도, 정확성, 반복성 등을 제공합니다. 또한, 이 툴은 다양한 기능과 유연성을 제공하여 제조업체가 웨이퍼 테스트 (Wafer Testing) 및 도량형 (Metrology) 작업을 최대한 활용할 수 있습니다.
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