판매용 중고 IMS LVIS-III #9134183

IMS LVIS-III 웨이퍼 테스트 (wafer testing) 및 도량형 장비 (metrology equipment) 는 얇은 웨이퍼 및 장치 구조, 수율 및 신뢰성 문제에 대한 매우 정확하고 반복 가능한 측정을 제공하도록 설계되었습니다. 반도체 업계의 다양한 애플리케이션 (예: 고장 분석, 프로세스 모니터링, 도량형) 에 적합하고 안정적인 툴입니다. LVIS-III는 고해상도, 풀 필드 이미징 시스템, 단단한 온도 안정화 환경, 저소음 작동 등 여러 가지 독특한 기능으로 구성됩니다. 전체 필드 이미징 장치 (full-field imaging unit) 는 웨이퍼의 피쳐를 정확하게 측정하기 위해 최대 0.5um 해상도를 달성합니다. 또한, 이 머신은 여러 이미지를 하나의 더 큰 이미지로 정렬하여 더 큰 시야를 제공하는 특수 이미징 (special imaging) 기능을 제공합니다. 정밀 온도 조절 환경은 정확한 측정을 위해 가장 안정적인 조건을 보장하는 반면, 저소음 증폭기 (low-noise amplifier) 는 정확도를 더욱 향상시킵니다. IMS LVIS-III에는 다양한 기능과 결함을 감지하고 분석 할 수있는 포괄적 인 도량형 기능이 있습니다. 파퍼의 작은 기능 (예: 입자, 긁힘, 표면 질감, 서브 미크론 서브 표면 결함) 도 검사하고 분리 할 수 있습니다. 또한 다양한 결함을 면밀히 분석하기 위해 고장 분석 단면, X선 형광 스캔, 이온 현미경 스캔 등 고급 결함 분석 도구가 장착되어 있습니다. LVIS-III 툴은 빠르고 안정적인 데이터 수집을 위해 설계되었습니다. 따라서 물리적 웨이퍼 (wafer) 처리가 없어서 많은 시간과 비용을 절감할 수 있습니다. 에셋은 또한 웨이퍼 (wafer) 측정의 속도를 높이기 위해 최대 25 개의 위치를 동시에 측정 할 수 있으며, 통계적 분석을 수행하기 위해 측정을 추출하여 사용자에게 완전한 분석 패키지를 제공 할 수있다. 전반적으로 IMS LVIS-III 웨이퍼 테스트 및 도량형 모델은 반도체 산업에서 강력한 도구입니다. 고해상도 이미징, 온도 안정화 환경, 고급 도량형 기능을 통해 웨이퍼 테스트, 안정성 분석, 프로세스 모니터링을 위한 최적의 선택이 가능합니다.