판매용 중고 GEMETEC Elymat III #9137889

GEMETEC Elymat III
ID: 9137889
웨이퍼 크기: 12"
Electrolytical metal analysis tool, 12" Measurement precision diffusion length: 5% Over 10 repeated measurements Measurement accuracy diffusion length: 10% Compared with similar techniques Laser beam scans across silicon wafer immersed electrolytic cell (Dilute HF) With applied voltage and resulting diffusion current measured Measurement modes: BPC & FPC Diffusion current decreases due to partial recombination diffusing carriers Measuring different laser intensities allows iron to be identified.
GEMETEC Elymat III는 웨이퍼 검사 및 생산 프로세스 제어를 향상시키기 위해 설계된 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. wafer 는 wafer 의 주요 전기, 물리적, 차원 매개변수를 정확하고 정확하게 측정할 수 있는 기능을 제공하며, wafer 의 각 디바이스를 자세히 검사할 수 있습니다. 자동화와 비접촉 (non-contact) 광 매핑을 통해 전체 웨이퍼 이미징 및 데이터 추출을 지원합니다. 이 시스템은 고급 단색 디지털 이미징을 사용하여 사용자에게 매우 정확한 이미징 해상도를 제공합니다. 기계식 플랫폼은 다양한 구성에서 웨이퍼 스캔을 허용합니다. 이 장치는 150mm, 200mm, 250mm 및 600mm를 포함한 다양한 웨이퍼 크기와 호환됩니다. 또한 자동 패턴 검사 (automated pattern inspection) 기능을 통해 사용자가 웨이퍼에 인쇄된 모든 기능을 빠르고 정확하게 측정할 수 있습니다. Elymat III의 핵심은 고급 격자 기반 이미징 기술을 사용하는 카메라 장치입니다. 이 기계는 웨이퍼 (wafer) 또는 고해상도의 다른 재료의 모든 피쳐를 측정할 수 있습니다. 그레이팅 기반 이미징은 또한 전기 장치 테스트를 가능하게하며, 그리드, 표준 셀, 고밀도 구조 등 다양한 장치 유형을 지원합니다. 이 도구의 또 다른 주요 기능은 비접촉 광 매핑입니다. 이 기술을 통해 전체 웨이퍼 이미징 (full-wafer imaging) 과 데이터 추출 (data extraction) 을 몇 분 안에 완료할 수 있으므로 전체 웨이퍼를 정확하게 평가할 수 있습니다. 또한 비접촉 광 매핑 (non-contact optical mapping) 을 통해 우수한 기능, 결함 감지, 전기 커플링 문제 확인 등을 신속하고 쉽게 확인할 수 있습니다. GEMETEC Elymat III는 웨이퍼의 모든 기능에 대한 정확하고 일관된 측정을 제공합니다. 저항성, 정전용량, 유전율 상수 등 다양한 전기적, 물리적 매개변수를 지원합니다. 이 자산은 또한 3D 프로파일 특성화와 오염 모니터링 (오염 모니터링) 을 제공하여 사용자는 프로세스 조건을 신속하게 최적화하고 웨이퍼 오염을 최소화할 수 있습니다. 전반적으로 Elymat III는 안정적인 정확성과 반복 가능성을 갖춘 웨이퍼 테스트 및 도량형 기능을 제공합니다. 비접촉 (non-contact) 광 매핑 기술과 더불어 다양한 기능을 통해 웨이퍼 (wafer) 검사 및 프로세스 제어를 향상시키는 이상적인 모델입니다.
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