판매용 중고 E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #9234110

E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q는 고급 기술을 사용하여 구성된 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비로, 반도체 산업 내에서 복잡한 웨이퍼 및 기타 구성 요소를 측정하고 분석 할 수 있습니다. 이 시스템은 박막 (Thin Film) 과 복잡한 표면 (Surface) 측정 모두에 필요한 일관성 있고 정밀하고 정확한 측정을 위해 설계되었습니다. E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q 장치는 공백 측정 기술을 사용하여 정밀도 및 해상도가 뛰어난 수직 돌출 및 스텝 높이 변화와 같은 3D 표면 지형 피쳐를 정확하게 측정합니다. 이 기계는 직경이 최대 200mm 인 웨이퍼 (wafer) 를 측정 할 수 있으며 빠르고 신뢰할 수있는 기판 변경을 위해 빠른 릴리스 웨이퍼 홀더를 갖추고 있습니다. 또한, 측정 스테이션 (Measurement Station) 은 여러 목표 및 Probe 구성을 활용하여 특정 테스트 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 이 도구는 또한 평면과 스텝 서피스의 빠르고 정확한 측정을 위해 특별히 설계된 회전 단계 (rotary stage) 를 특징으로합니다. 여기에는 다양한 광학 시스템, 선택 가능한 마이크로 조작 단계 (micro manipulation stage) 및 정교한 패턴 인식 자산 (pattern recognition asset) 이 장착되어 있어 특정 기능 및 측정의 식별, 선택 및 크기를 자동화합니다. 이 모델에는 고해상도 데이터를 다양한 형식으로 캡처, 저장할 수 있게 해 주는 고급 (High-End) 비디오 카메라가 연결된 고속 (High-Speed) 이미지 획득 모듈이 포함되어 있어 쉽게 결과를 전송하고 분석할 수 있습니다. 또한 최첨단 프로그램 인터페이스 (최첨단 프로그램 인터페이스) 를 통합하여 정밀 측정을 처리하기 위해 동적/대화형 사용자 인터페이스를 생성하는 작업을 단순화합니다. 전반적으로 E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q는 효과적인 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비로, 뛰어난 정확도로 높은 정밀도, 반복 가능한 측정을 제공 할 수 있습니다. 이 시스템은 다양한 기능과 첨단 기술 (Advanced Technology) 을 통해 모든 웨이퍼 테스트 (Wafer Testing) 및 도량형 애플리케이션에 이상적인 솔루션을 제공할 수 있습니다.