판매용 중고 CDE RESMAP 178 #293827712

CDE RESMAP 178
ID: 293827712
웨이퍼 크기: 4"
Four-point probe systems, 4" PC Silicon Carbide (SiC).
CDE RESMAP 178은 고급 웨이퍼 테스트 (wafer testing) 및 도량형 (metrology) 장비로, 반도체 제조업체가 프로세스 기능을 향상시키면서 제품의 최고 품질을 보장합니다. 이 시스템은 결함 밀도, 선 너비, 균일성 (unifority) 과 같은 다양한 재료 특성을 측정 할 수있는 완전한 기능의 시스템입니다. 또한 정밀 도량형을 제공하여 최고 수준의 정확성과 재현성을 보장합니다. 장치의 주요 구성 요소는 8 위치 마이크로 매니 펄레이터, 레이저 간섭계 및 PC 기반 사용자 인터페이스입니다. 마이크로 마니 풀레이터 (micromanipulator) 는 웨이퍼 표면을 정확하게 조작 할 수 있으며 나노 미터 스케일 해상도를 할 수있다. "레이저 '간섭계 는" 와퍼' 의 매우 정밀 한 특성 을 높은 수준 의 정확도 로 측정 할 수 있다. 사용자 인터페이스는 도구와 PC 모두에서 액세스할 수 있습니다. RESMAP 178은 반도체 산업의 테스트 및 도량형 응용 프로그램을 위해 특별히 설계되었습니다. 고해상도 (High Resolution) 와 정확도 (Accuracy) 를 위해 제작되었으므로 이미징 검사, 표면 지형, 웨이퍼 결함 검사, 웨이퍼 평탄도 검사 등 다양한 측정 응용 프로그램을 지원합니다. 이 자산은 종합적인 기능을 통해 고해상도 라인 너비 (Line Width), 균일성 (Uniformity) 을 측정할 수 있으며 라인 엣지 러프 니스 (Line Edge Roughness) 와 같은 매우 어려운 테스트 영역의 도량형을 제공합니다. CDE RESMAP178 은 사용자 친화적이며, 쉽게 구성할 수 있도록 설계되었으며, 사용자가 기본 설정과 매개변수를 빠르고 쉽게 설정할 수 있습니다. 이 모델은 또한 고도로 자동화되도록 설계되었으며, 사용자가 측정해야 할 특정 피쳐 (feature) 나 매개변수 (parameter) 를 빠르고 쉽게 검색할 수 있습니다. 이렇게 하면 설정 시간을 줄이고 처리량을 향상시킬 수 있습니다. 또한, 이 장비는 강력한 데이터 분석을 제공하여 결과의 높은 정확성과 반복성을 보장합니다. 데이터를 분석하기 위해 특수 알고리즘이 구현되었으며, 이는 사용자에게 정확하고 안정적인 결과를 제공합니다. 고급 이미지 분석 기술 (Advanced image analysis technology) 은 또한 사용자가 기본 기능을 식별하고 허위 긍정의 위험을 줄일 수 있도록 지원합니다. 이 시스템은 또한 감사 추적 (Audit Trail) 기능을 제공하여 사용자가 쉽게 작업을 추적할 수 있습니다. RESMAP 178은 고급 웨이퍼 테스트 (wafer testing) 및 도량형 장치 (metrology unit) 로, 반도체 프로세스 기능을 향상시키고 최고의 제품 품질을 보장합니다. 이 기계는 혁신적인 디자인과 강력한 기능으로, 반도체 업계의 테스트, 도량형 응용에 매우 효과적인 도구입니다.
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