판매용 중고 ULTRATECH UltraStep 1500 #9266062

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ULTRATECH UltraStep 1500
판매
ID: 9266062
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 1993
Stepper, 6" Fine line resolution: 1.0 µm Depth of focus: 3.0 µm at 1.0 µm lines Maximum square: 18 mm x 18 mm Maximum aspect: 39 mm x 1.4 mm Maximum area: 34.2 mm x 13.6 mm Reticle size: 3" x 5" x 0.090" Alignment: WAS Computer: HP 362 With hard disk No MVS Wafer handling: Cassette to cassette auto loader SEMI Standard 1993 vintage.
ULTRATECH UltraStep 1500 (UltraStep 1500) 은 다양한 어플리케이션에서 높은 수준의 성능을 제공하는 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 장비는 반도체 웨이퍼 (wafer) 를 포함한 다양한 재료 표면에 대한 원하는 광석기 (photolithography) 프로세스를 정확하고 효율적으로 패턴화하도록 설계되었습니다. 간편한 사용자 친화적 인터페이스 (User-Friendly Interface) 를 통해 빠르고 쉽게 설치할 수 있으며, 다양한 사용자에게 탁월한 선택이 가능합니다. UltraStep 1500은 고해상도 쿼츠 프로젝션 렌즈 (Quartz Projection Lens) 와 향상된 정확성과 반복성을 위해 매우 적응적이고 프로그래밍 가능한 단계로 제작되었습니다. 수차 (수차) 와 이미지 (이미지) 가 최소화되어 선명하고 정밀한 이미지를 생성하는 고급 광학 시스템이 있습니다. 이 장치에는 웨이퍼 및 마스크 정렬을위한 통합 레이저 머신도 있습니다. ULTRATECH UltraStep 1500 (UltraStep 1500) 은 다양한 고급 기능으로, 더 높은 수준의 디테일과 복잡성으로 프로세스를 패턴화하는 데 적합합니다. 이 툴은 고급 X/Y 스캐닝 (X/Y) 기술을 활용하여 다양한 기능 크기에 대한 전체 현장 노출 정확도를 달성합니다. 또한 높은 처리량 (Throughput) 설계를 통해 더 넓은 영역을 빠르고 효율적으로 패턴화할 수 있습니다. UltraStep 1500에는 다양한 통합 제어 기능이 포함되어 있습니다. 이 자산은 완전히 프로그래밍 가능한 노출 설정을 가지고 있으므로, 정확한 매개변수를 저장하고 서로 다른 프로젝트를 쉽고 빠르게 적용할 수 있습니다. 또한 단일 및 다중 레이어 노출, 가변 전력/시간 노출, 스팟 노출, 가변 선 폭 노출 등 다양한 노출 유형을 지원합니다. ULTRATECH UltraStep 1500 (UltraStep 1500) 은 높은 정확성과 반복성으로 인해 정밀 패턴화 프로세스에 이상적인 선택입니다. 이 제품은 다양한 패턴화 (patterning) 요구 사항을 충족할 수 있도록 설계되었으며, 통합 제어 기능과 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface) 를 통해 웨이퍼 레벨 (wafer-level) 패키징 작업을 손쉽게 선택할 수 있습니다. 이 모델은 프로덕션 (production) 과 실험실 (laboratory) 응용 프로그램 모두에 적합한 모델이며 사진 해설법 (photolithography) 프로세스의 연구 및 개발에 적합한 플랫폼을 제공합니다.
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