판매용 중고 ULTRATECH Star 100 #9252513

ULTRATECH Star 100 웨이퍼 스테퍼는 반도체 웨이퍼에서 크고 작은 구조를 패턴화하는 데 사용되는 고급 석판 도구입니다. 전체 웨이퍼에 걸쳐 매우 정확한 초점과 정렬을 유지하면서 고해상도, 고정밀도 이미지를 제작할 수 있는 최상위 (Top-of-the-Line) 스테퍼입니다. ULTRATECH STAR100은 KrF 침수 리소그래피라는 고급 광학 조명 모드를 사용합니다. 이 기술은 깊은 UV 조명원과 웨이퍼 (wafer) 와 조명 영역 사이의 화학 반응을 사용하며, 이는 KrF 소스의 더 깊은 깊이와 작은 반점 크기 (small spot size) 로 인해 높은 해상도를 초래합니다. Star 100 의 최첨단 Dual-Axis 프로젝션 Optic 은 견고한 공차 요구 사항을 갖춘 이미지 처리 기능을 사용할 때 매우 세밀한 조정을 가능하게 합니다. 또한, 프로젝션 광학 (projection optics) 은 이미징 장비의 서브 미크론 (sub-micron) 해상도와 함께 투영 된 석판 패턴이 최고 품질인지 확인하는 높은 수치 조리개를 제공합니다. STAR100의 초정밀 단계는 이미징 기능을 더욱 향상시킵니다. 이 단계는 고해상도 동작 제어 시스템 (Motion Control System) 과 미세하게 조정된 인덱싱 드라이브 (Indexing Drive) 를 결합하여 동급 최고의 정렬 정확도를 제공합니다. 스테이지에는 0.5 미크론의 위치 정밀도를 달성하기 위해 x축 및 y축 제어가 모두 있습니다. 기판 제어를 위해 ULTRATECH Star 100은 미세 결정질 다이아몬드 척 장치를 사용합니다. 이 기계는 가장자리 효과를 제거하고, 웨이퍼에 걸쳐 균일한 온도 분포를 보장하여 최적의 패턴 전송을 보장합니다. ULTRATECH STAR100의 소스/노출 컨트롤은 뛰어난 반복성과 신뢰성을 위해 설계되었습니다. 레이저 전원 (laser power) 에서 셔터 속도 (shutter speed) 에 이르기까지 다양한 조정 가능한 공구 6 (Tool 6) 매개변수가 있어 노출 과정의 미세 튜닝이 가능합니다. 마지막으로, Star 100 은 정교한 장애 감지 (fault detection) 및 수정 자산 (correction asset) 을 갖추고 있어 제조 과정에서 오류가 발생하기 전에 잠재적 문제를 감지할 수 있습니다. 이 모델은 계속해서 웨이퍼를 스캔하고 임의의 불일치에 대한 매개변수를 모니터하며, 임의의 경우 경보를 활성화 (activate) 하거나 프로세스 매개변수를 자동으로 조정할 수 있습니다.