판매용 중고 ULTRATECH Saturn Spectrum 300 #9357231
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ID: 9357231
웨이퍼 크기: 12"
Stepper, 12"
Lens: 2.0µm
Robotic wafer handler, 8"-12"
Environmental chamber
Reticle library
Light pipe: 44 x 26.7 mm
Illuminator: 1000w
Lens alignment
Automatic enhanced global alignment
Air probe focus detector
3-Point focus detector
Linear motor: X, Y stage
MVS Pattern recognition system
Closed loop exposure dose controller
Vibration isolation system
Auto-uniformity
Dynamic focus
SECS II Compatibility
Bottom-side prism protection pellicle
Dual flip aperture broadband
Intensity: 1650mW
Uniformity: 7%
DOF: 2µm.
ULTRATECH Saturn Spectrum 300은 고급 반도체 장치의 대량 생산을 위해 특별히 설계된 고성능 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 기계는 작동 면적이 30 x 30cm (30 x 30cm) 인 반도체 프로세싱에서 뛰어난 생산량과 처리량 성능을 달성합니다. 대용량 렌즈 장비와 완전 자동 스캐닝 기능을 갖춘 하이브리드 (hybrid) 내장 프로젝션 스테퍼 (projection stepper) 로, 서브 미크론 리소그래피 애플리케이션에 적합합니다. 이 시스템에는 2 개의 독립적 인 광자 영상 시스템이 장착되어 있어 포토 마스크 (photomask) 어댑터가 필요 없는 스테레오 리소그래피 (stereo lithography) 를 처리 할 수 있습니다. 양성 (positive) 과 음성 (negative) 포토레시스트를 모두 처리 할 수 있으므로 저항 처리에 이상적입니다. 또한, 독특한 '에지 플런지 (edge-plunge)' 기능을 통해 웨이퍼의 접촉을 정확하게 포지셔닝할 수 있습니다. Saturn Spectrum 300은 고급 9 축 동작 제어 장치를 사용하여 반도체 노출 중 정확한 반복성과 안정성을 달성합니다. 안정성이 높고 안정적으로 설계되었으며, 작업 중 전체 스캔 면적의 5% 미만을 잃을 수 있습니다 (영문). 이 기계는 기존 웨이퍼 스텝 (wafer stepper) 보다 움직이는 부품이 적어 효율성이 향상되고 유지 관리 비용이 절감됩니다. 올글라스 (All-glass) 주 광학 경로로 제작되어 높은 성능과 매우 낮은 왜곡률을 보장합니다. 또한, 냉각에 공기-물 안개 (air-water mist) 를 사용하여 광학 경로에 영향을 미치지 않고 균일 한 시원함을 보장합니다. 이미지 및 처리량 성능을 향상시키는 데 도움이 됩니다. ULTRATECH Saturn Spectrum 300은 강력하면서도 사용자 친화적 인 소프트웨어 패키지에 의해 제어되며, 사용자는 다양한 반도체 처리 요구사항에 대한 사용 편이성과 유연성을 제공합니다. 또한 고급 데이터 관리 기능 (예: 오류 자동 수정, 전체 스캔 리콜 시스템) 을 제공합니다. Saturn Spectrum 300은 최첨단 반도체 처리에 이상적인 도구입니다. 크기나 자재 변경으로 인한 업무 중단을 최소화하면서 탁월한 수율과 처리량을 제공하며, 신뢰성이 높고 비용 효율적입니다 (영문). 정밀도 (Precision) 와 정확도 (Accuracy) 의 최고 표준을 충족하도록 설계되었으며, 오늘날 가장 발전된 반도체 장치의 생산을위한 최신 성능 수준을 제공합니다.
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