판매용 중고 ULTRATECH Sapphire 100 #293645247
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ID: 293645247
웨이퍼 크기: 4"
빈티지: 2011
Stepper, 4"
Reticle size: 3 x 5
Lens resolution: 2 µm
I-Line illuminator wavelength
TAZMO Loader
PC
2011 vintage.
ULTRATECH Sapphire 100은 MEMS, optoelectronics 및 기타 반도체 응용 프로그램을 위해 특별히 설계된 다중 필드 계층 웨이퍼 스테퍼입니다. 최신 석판화, 도량형 및 자동화 기술을 갖춘 고급 도구입니다. 이 도구는 초고속, 하위 반 미크론 스텝 크기와 최대 반복 가능한 정확도 (± 1 미크론) 를 갖습니다. 또한 매우 유연한 드라이브 펄스 (Drive Pulse), 프로세스 매개변수 (Process Parameter) 및 사용자 정의 기능을 제공하여 엔터프라이즈급 생산성을 보장합니다. 사파이어 100 (Sapphire 100) 은 매우 높은 정밀도가 필요한 어플리케이션에 이상적인 경제적인 고성능 스테퍼입니다. 정확한 패턴 형태, 피쳐 크기, 위치 정확도를 정확하고 원활하게 제공할 수 있습니다. 따라서 마이크로패키지, MEMS, SOI, 고급 스위치, 다중 조리개 렌즈와 같은 필수 장치를 제작할 수 있습니다. 스테퍼에는 강력한 고속 컨트롤러와 최적화된 옵틱이 장착되어 있으며, 여러 가지 렌즈와 다색 및 고출력 LED 조명원으로 구성되어 있습니다. 이 시스템은 최대 프로세스 정확도 ± 0.5m로 최대 5 배의 스텝 크기 (최대 5 배 크기) 에서 기판을 스캔 할 수 있습니다. 멀티필드 계층형 스텝 스캔 (Steped Scan) 기술을 통해 제품 출시 시간을 단축하고 처리량을 향상시켜 시간당 600 개 이상의 부품을 확보할 수 있습니다. ULTRATECH Sapphire 100은 뛰어난 이미지 품질, 더 큰 처리량 및 고조파 조명 최적화를 제공하기 위해 미세하게 조정되었습니다. 또한 엄격한 오염 제어 표준 (contamination control standard) 및 진단 및 자동 프로세스 데이터 분석 (Scrap and Boost Yield) 을 보장하는 현장 청소 시스템을 갖추고 있습니다. 또한, Sapphire 100에는 복잡한 기하학적 모양을 프로그래밍하기위한 사용자 친화적 인 인터페이스가 있으며, 개선 된 워크플로에는 여러 사용자 계정이 제공됩니다. 전반적으로 ULTRATECH Sapphire 100은 MEMS, 광전자 및 기타 반도체 응용 분야에 필수적인 도구입니다. 정확성과 유연성을 결합한 뛰어난 화질, 멀티필드 계층형 스캔, 고급 제어 시스템 (Advanced Control System), 현장 청소 (in-situ cleaning) 를 통해 고성능 및 비용 효율적인 생산에 이상적입니다.
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