판매용 중고 ULTRATECH Multipol #293607366

ULTRATECH Multipol은 반도체 장치 제조 산업에 사용되는 웨이퍼 스테퍼입니다. 반도체 칩의 미세 구조를 패턴화하도록 설계된 매우 정확하고 높은 수율 도구입니다. 1 미크론에서 32 미크론 크기의 장치를 생산합니다. 멀티 폴 (Multipol) 은 X-Y 전동 스캐닝 스테이지로 구성된 스캔 램프를 사용하여 웨이퍼 표면에 미세한 구조를 형성합니다. 스캔 램프에는 각각 AOI (Angle of Incidence) 가 0-90도 인 직경이 5-50mm 인 다양한 오브젝티브 렌즈가 장착되어 있습니다. ULTRATECH Multipol은 최대 12 인치 웨이퍼 기판에서 패턴을 생성 할 수있는 가변 크기의 단계를 사용합니다. 4X에서 50X까지의 이미지를 투영할 수 있으며, 스텝 앤 리피트 (step-and-repeat), 스캔 (scan) 또는 이 두 가지의 조합을 패턴화할 수 있는 유연성을 제공합니다. 최대 노출 시간은 10 밀리초로 1nm 이상의 해상도를 갖습니다. 이 스테퍼는 강도가 높은 가벼운 조명을 특징으로하며, 이는 최적의 패턴화 성능을 제공합니다. 멀티 폴 (Multipol) 은 고급 제어 알고리즘을 사용하여 정확한 스테퍼 제어 및 최적화를 지원합니다. 또한 프로그래밍 가능한 사용자 인터페이스 (user interface) 를 갖추고 있으며, 이를 통해 패턴화 기능을 사용자 정의할 수 있습니다. 사용자 인터페이스 (User Interface) 를 각 애플리케이션의 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. 즉, 디바이스가 가장 정밀도가 높은 기능을 수행할 수 있도록 합니다. 또한, ULTRATECH Multipol (ULTRATECH Multipol) 에는 작동 중 웨이퍼와 장치가 손상되지 않도록 하는 다양한 안전 기능이 포함되어 있습니다. 여기에는 반사 방지 셔터 (anti-reflection shutter), 빔 정렬기 (beam aligner) 및 유지 보수 중에 입자가 손상되지 않도록 진공 척이 포함됩니다. 스테퍼에는 자동 초점 시스템 (auto-focus system) 과 시력 보정 시스템 (vision correction system) 이 장착되어 있어, 패턴화 과정에서 최고 수준의 정확도를 유지하기 위해 렌즈를 웨이퍼 표면에 조정할 수 있습니다. 전반적으로, 멀티 폴 (Multipol) 은 정확한 정확도로 작고 큰 웨이퍼를 패턴 할 수있는 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. 또한 '단계 및 반복 (step-and-repeat)' 모드와 '스캔 (scan)' 모드로 작동할 수 있으며 고객의 구체적인 요구 사항을 충족하도록 사용자 인터페이스를 맞춤식으로 구성할 수 있습니다. 또한 장치 손상을 방지하기 위해 여러 가지 안전 기능을 제공합니다. 이러한 모든 요소는 반도체 장치 제조 산업에서 성공을 지원합니다.