판매용 중고 ULTRATECH LC 37 #9036437

ULTRATECH LC 37은 강력한 석판 정밀도와 탁월한 장비 신뢰성을 제공하는 다기능, 비용 효율적인 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 시스템은 대용량 생산 환경의 요구를 충족하기 위해 특별히 설계되었으며, 고해상도 이미징, 6 인치 웨이퍼 (wafer) 의 정확한 패턴, 모든 노출에 따라 안정적이고 반복 가능한 성능을 제공합니다. 정교한 소프트웨어는 그래픽 사용자 인터페이스를 통해 사용하기 쉬운 설계, 정렬, 측정, 노출 기능을 제공합니다. 사용자 인터페이스 (User Interface) 는 직관적인 기능과 설정을 통해 전체 프로세스를 통해 연산자를 안내합니다. 따라서 정확한 패턴은 더 적은 시간, 적은 수의 오류로 생성할 수 있습니다. 또한 작업 예약, 오정 조정, [자동 밝은 필드], [자동 톤 컨트롤] 등의 광학 설정 배열과 같은 고급 기능도 제공합니다. 이 장치에는 직경이 최대 12 인치 인 웨이퍼를 노출 할 수있는 고급 웨이퍼 처리 머신 (wafer-handling machine) 이 장착되어 있습니다. 특허를받은 도구는 고유 한 공기 베어링 컨베이어 작업을 사용하여 X 축과 Y 축 모두에서 매우 정확하고 반복 가능한 움직임을 제공합니다. 또한 카세트에서 노출 영역으로 6 인치 웨이퍼를 정확하고 반복적으로 전달 할 수있는 2 단계 포지셔닝 에셋 (위치 정밀도) 을 제공합니다. 또한이 모델은 뛰어난 노출 균일성을 위해 고출력 광원으로 구동됩니다. 펄스 UV 레이저는 전체 웨이퍼에 균일 한 노출을 제공합니다. 이를 통해 불균일 성을 제거하여 최대한의 해상도를 달성할 수 있습니다. 자외선 레이저 (UV Laser) 의 힘과 벽의 어둠 (Darkness) 은 대용량 노출을 위한 완벽한 선택입니다. 이 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 는 또한 세미 오픈 (Semi-Open) 아키텍처와 최신 기술이 등장함에 따라 업그레이드 가능성의 유연성을 제공하는 모듈식 장비를 갖추고 있습니다. 고급 석판화 (lithographic) 요구 사항과 포괄적인 프로그래밍 및 통신 옵션을 위한 외부 도구 (external tools) 와 통합할 수 있습니다. 또한, 자동 정렬, 초점 결정, 전자 열 도량형 (electron column metrology) 과 같은 포괄적인 필수 석판 처리 도구 세트가 제공됩니다. 전반적으로 LC 37은 대용량 어플리케이션에 적합한 솔루션으로, 탁월한 성능과 안정성을 제공합니다. 이 시스템의 특징과 기능은 탁월한 성능, 정확성, 비용 효율성을 제공하므로, 기업은 다운타임을 최소화하고 처리량, 생산량을 효율적으로 절감할 수 있습니다.