판매용 중고 ULTRATECH AP200 #9225121

울트라 테크 AP200 (ULTRATECH AP200) 은 고급 웨이퍼 스테퍼로, 평평한 기판의 고해상도 광석기 마스크를 극도로 정확하게 만들도록 설계되었습니다. 이 스테퍼는 도달하기 어려운 곡선과 선명한 정렬 기능을 위해 설계되었습니다. 유전체, 광선 민감성 및 매장 된 층 패턴에도 적합합니다. 스테퍼는 설계 규칙 밀도, 레이어 수, 정확도, 반복성 및 필드 크기에 유연한 옵션으로 8 "- 300mm 웨이퍼 크기를 사용할 수 있습니다. 다양한 정렬 작업을 위해 4-6 미크론 수평 선형 해상도와 0.13 미크론 수직/z 축 해상도를 제공합니다. 스테퍼에는 정확한 패턴 등록을 유지하기 위해 탁월한 필드 오버랩이 있습니다. ULTRATECH AP 200에는 PAM (Pulse Amplitude Modulation) 기술이 가능한 고에너지 Photo Print Head 시스템이 있습니다. 이 기능은 인쇄 헤드의 출력을 특정 브러쉬 패턴 (brush pattern) 의 강도 프로파일에 더 잘 맞도록 정확하게 변조하여 패턴 왜곡 (pattern distortion) 을 줄입니다. 또한 KrF, ArF, HeCd 및 광대역 UV를 포함한 다양한 노출 소스로 설계되었습니다. 고해상도 이미징 기능 외에도 AP200에는 필드, 격자, 격자 (isolated pattern exposure) 와 같은 고급 제어 기능과 노출 후 베이킹이 포함되어 있습니다. 웨이퍼 레벨 및 기판 레벨 검사의 전체 배열도 제공됩니다. 이러한 고급 처리 기능에는 Automated Parameter 및 Recipe Manager (매개변수 레시피 저장, 검색 및 수정 기능) 및 자동화된 Thermal Profiling (빠르고 안정적인 정밀 온도 조정 가능) 이 포함됩니다. AP 200은 대형 광석기 마스크 제작을위한 최고의 웨이퍼 스테퍼입니다. 고해상도 이미징 및 다중 노출 기능을 통해 평면 패널 디스플레이 (Flat Panel Display), 인터포저 (Interposer), 멀티 칩 패키지 (Multi Chip Package) 및 기타 고급 반도체 Fab 어플리케이션 생산에 이상적인 선택이 가능합니다. 노출 소스, 웨이퍼 레벨 (wafer-level) 및 기판 레벨 검사, 자동화된 매개변수 및 레시피 관리 (recipe management) 와 같은 강력한 기능을 통해 포토리스토그래피 프로세스를 요구하는 안정적이고 비용 효율적인 솔루션이 될 수 있습니다.