판매용 중고 ULTRATECH 1500 #9378612

ULTRATECH 1500은 3 차원 마이크로 및 나노 전자 구조의 제작을 위해 설계된 석판화 장비입니다. 이 시스템은 뛰어난 라인 에지 (line edge) 정의와 고화질 정밀도로 고해상도 이미지를 제작할 수 있습니다. 그것은 2 개의 레이저를 통합하고 13cm x 13cm의 이미징 영역을 가지고 있습니다. 1500은 고급 특허 기술을 사용하여 가장 섬세한 구조의 정확한 패턴을 가능하게합니다. 여기에는 이중 빔 정렬이 포함되며, 이는 마스크와 웨이퍼 간의 정렬을 허용합니다. 초점 이온 빔 (FIB) 리소그래피 (Focused ion beam, FIB) 리소그래피) 는 나노 미터 특징의 패턴을 웨이퍼 표면으로 옮길 수 있습니다. 및 전자 빔 리소그래피 (EBL) (Electron beam lithography) 는 해상도가 0.1 미크론 미만인 피쳐 크기 및 포지셔닝을 제어 할 수 있습니다. 이 장치는 또한 석판화 마스크 디자인을 최적화하기 위해 최첨단 컴퓨터 알고리즘을 사용합니다. 이 알고리즘은 머신 러닝 (machine learning) 기술을 사용하여 복잡한 패턴을 더 잘 인식하고 높은 성능을 보장할 수 있습니다. ULTRATECH 1500은 고객의 정확한 사양에 맞게 다양한 스테퍼 옵션을 제공합니다. 미세 유체 장치, 광전자 장치, 생물학적 센서, 미세 유체 구조 등 다양한 서브 미크론 장치 제작 응용 분야에 사용할 수 있습니다. 이 툴은 사용자 친화적 인 소프트웨어 인터페이스와 포괄적인 안전 기능 (예: 의도하지 않은 손상에 대한 자동 수정, 자산 성능/오류 경고에 대한 실시간 모니터링) 을 손쉽게 사용할 수 있습니다. 또한 온도 조절 챔버 (temper-controlled chamber) 와 샘플 로더 (sample loader) 를 포함하여 추가 사용자 정의에 사용할 수있는 다양한 액세서리가 있습니다. 1500은 복잡하고 고정밀 3 차원 마이크로 및 나노 전자 부품의 효율적이고, 정확하며, 비용 효율적인 생산을 보장합니다. 까다로운 제작 (Manfrication) 과제를 실행하고 제품을 최대한으로 만들 수 있도록 만드는 것은 훌륭한 선택입니다.