판매용 중고 ULTRATECH 1500 #9019176

울트라 텍 1500 (ULTRATECH 1500) 은 컴퓨터 칩과 같은 반도체 장치의 제조에 사용되는 웨이퍼 스테퍼 유형입니다. 서브 미크론 범위의 1 단계 리소그래피를 위해 설계된 전용 장비입니다. 1500 웨이퍼 스테퍼는 특수 레이저 아크 시스템에서 생산되는 초점 및 고에너지 UV 빛을 사용합니다. 이 자외선 (UV light) 은 웨이퍼 (wafer) 표면에 스핀 캐스트된 포토레스 레이어를 노출시키는 데 사용됩니다. 그런 다음, "웨이퍼 '를 화학 발전기 에 담가 광저장층 에서 형성 된 미세 구조 를 선택적 으로 밝혀낼 수 있다. ULTRATECH 1500 웨이퍼 스테퍼에는 정렬, 패턴, 오버레이 모니터링, 초점 정렬 및 입자 제어가 포함됩니다. 또한 레이저 헤드 로테이터와 중심 메커니즘을 포함하는 상단 스테이지가 있습니다. 로테이터 (rotator) 를 사용하면 레이저가 x, y 및 z 축으로 이동하여 최종 미세 구조의 피쳐에서 해상도와 배치 정확도를 높일 수 있습니다. 중심 장치 는 "레이저 '와" 웨이퍼' 의 정확 한 정렬 을 보장 한다. 이 장치 에는 또한 광원 도 포함 되는데, 광원 은 "램프 '일 수 도 있고" 레이저' 일 수 도 있으며, 그것 은 "프로젝트 '의 필요 에 따라 다르다. 소스는 집단성 격자 기계 (collectivity grating machine) 에 결합되어 빛을 2 개의 빔으로 분할 할 수 있으며, 이어서 스테퍼의 노출 영역에서 수렴합니다. 이것은 기판에 피쳐 배치의 높은 정확도를 유지합니다. 고급 이미징 도구도 스테퍼에 포함되어 있습니다. 여기에는 노출 전, 중, 후에 각 미세 구조의 이미지를 찍는 CCD 카메라가 포함됩니다. 그런 다음, 이러한 이미지를 교정 프레임과 비교하여 정확성과 품질을 보장 할 수 있습니다. 를 사용하여 각 피쳐의 크기와 모양을 측정할 수 있습니다. 1500 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 의 다른 특징으로는 공중에서 오염 물질을 제거하는 입자 제어 에셋이 있으며, 이로 인해 포토 esist 및 피쳐의 오염이 제거됩니다. OLP (Optical Low Pass Filter) 를 사용하여 스테퍼는 에너지 강도의 감소로 인한 왜곡을 보상 할 수 있으며, 이로 인해 노출되지 않은 인공물이 발생할 수 있습니다. 마지막으로, 스테퍼에는 높은 정확도의 웨이퍼 처리 모델 (wafer-handling model) 이 포함되어 있어 패턴 위에 웨이퍼를 빠르고 정확하게 배치할 수 있습니다. 이 모든 기능을 통해 ULTRATECH 1500은 마이크로 칩 생산에 적합한 선택이 가능합니다.