판매용 중고 ULTRATECH 1000 #9023151

ULTRATECH 1000은 도금, 확산, etch 및 기타 집적 회로 제조 절차의 석판 처리 단계를 위해 설계된 최첨단 웨이퍼 스테퍼입니다. 주목할 만한 개발에서는 하이엔드 성능을 위한 혁신적인 (Innovative) 기능의 뛰어난 조합을 갖추고 있습니다. 프로세스의 유연성과 속도가 뛰어나며, 스테퍼는 구성 능력이 뛰어난 Optic 및 Motion 플랫폼을 갖추고 있습니다. 고성능 서보 모터 (servo servomotor) 에 의해 구동되며, 다수의 작업에서 칩 완성에 걸리는 시간이 단축됩니다. 또한 연속 인쇄에 사용될 때 탁월한 성능을 제공하는 가속 및 속도 제어 장비 (A/S-C) 가 장착되어 있습니다. 이 시스템은 초고속 인쇄 속도에 대해 모터 속도, 확대/축소, 초점 매개변수의 고유한 조합을 제공합니다. 또한 1000 개는 지형의 기술 캐스케이드 (cascade of topography) 와 애플리케이션별 제어 및 정확성을 허용하는 양방향 리소그래피 (bidirectional lithography) 로 무장합니다. 이렇게 하면 사용자가 노출의 방향이 잘 정의되어 있으므로 복잡한 디바이스 구성 단계에서도 우수한 수율과 신뢰성 (안정성) 을 얻을 수 있습니다. 또한 고급 장치 (Advanced Unit) 는 전체 웨이퍼 전체에서 가장 높은 노출을 유지하기 위해 적합하며, 프로세스 결과의 최대 재현성을 가능하게합니다. 이 장치의 뛰어난 노출 기능은 빔 분할 (beam splitting) 과 사분면 (quadrants) 노출 작업의 조합을 통합하는 최첨단 "Centrisys" 광 머신에 기인합니다. 이를 통해 소프트 컨택트 이미징 (soft contact imaging) 은 단일 광학 매개변수로 정확하게 특징 지을 수 있습니다. 또한, ULTRATECH 1000에는 강력하고 고급 소프트웨어가 장착되어 있어 스테퍼를 신속하고 효율적으로 제어할 수 있습니다. MyWaferTM 소프트웨어 및 유지보수 보드 (Maintenance Board) 는 종합적인 제어 환경을 제공하여 노출 및 정렬을 위한 매개변수를 쉽고 편리하게 구성하고 웨이퍼 클리닝, 웨이퍼 로딩 (wafer loading) 과 같은 시간 프로세스를 모니터링합니다. 또한 1000 은 사용자가 직접 교체할 수 있는 고강도 장수명 플래시 램프와 가변 필드 노출 (VFE) (Variable Field Exposure, VFE) 옵션을 제공하며, 두 옵션 모두 높은 품질의 단일 작동을 보장합니다. 이 툴은 간단하고, 깨끗하고, 신뢰할 수 있도록 설계되었으며, 최고 수준의 성능으로 작동하려면 최소한의 유지 보수 (maintenance) 가 필요합니다. 이 모든 것이 ULTRATECH 1000을 모든 산업 또는 학술 리소그래피 요구 사항에 이상적인 솔루션으로 만듭니다.