판매용 중고 TAMARACK M304 #9398334

TAMARACK M304는 마이크로 칩 산업을 위해 특별히 설계된 고급적이고 안정적인 광학 스테퍼입니다. 이 스테퍼는 고정밀 (high-precision) 배치 장비를 사용하여 장치 완료 과정에서 가장 정밀하고 반복 가능한 정확도를 보장합니다. 멀티 카메라, 5 축 모션 시스템은 빠른 처리율을 허용하며, 고수율 제품의 생산을 용이하게 합니다. M304에는 최대 8 인치 크기의 웨이퍼를 처리 할 수있는 200mm 웨이퍼 스테이지가 있습니다. 스테퍼에는 모든 웨이퍼 사이트에서 다이 감쇠 제어를 위해 맞춤형 노출 열 (Exposure Column) 도 포함되어 있습니다. 이 노출 열은 또한 고도로 충실도 광대역 (high- fidelity broadband) 노출을 가능하게 하여 노출 과정에서 노출 오류가 발생할 가능성을 줄입니다. 또한, 통합 마이크로 렌즈 스캔 장치는 픽셀 수차를 최소화하고 각 다이 (die) 가 정확한 노출을 받도록 도와줍니다. 이 기계의 높은 유연도 보상 메커니즘은 최대 1 미크론 (micron) 의 잘못된 정렬을 교정할 수 있으며, 이는 웨이퍼 스크랩을 줄이는 데 도움이됩니다. 이 기계는 또한 50kHz 스캔 속도를 갖는 멀티 축 스캔 단계 (multi-axis scan stage) 를 특징으로하여 각 웨이퍼 사이트에서 고속, 동적 스캔을 용이하게합니다. 또한, 이 도구의 다중 해상도 이미징 경로는 초고해상도 이미징을 가능하게 하며, 1초 이내에 이미지 입수를 가능하게 합니다. 이 스테퍼 (stepper) 는 또한 노출 시간 및 초점 오류를 줄이기 위해 설계된 고급 목표 인식 (Target Recognition) 및 초점 개발 알고리즘을 제공합니다. 또한, 자산에는 다중 영역 용량 제어 모델 (multi-zone dose control model) 이 있으며, 이를 통해 사용자는 각 웨이퍼 사이트에서 용량 수준을 조정할 수 있습니다. 또한 스테퍼에는 이미지 배치 정확도와 처리량에 필수적인 매우 정확하고 반복 가능한 진공 (vacuum) 및 로드/언로드 (load/unload) 기능이 포함되어 있습니다. TAMARACK M304는 고급 기능과 매우 높은 정밀도를 제공하여 마이크로칩 (microchip) 응용 프로그램에 적합합니다. 5 축 동작 장비와 독점 노출 열 (Proprietary Exposure Column) 은 높은 처리량과 우수한 수율을 제공하는 반면, 스캐닝 및 용량 제어 기능은 정확한 노출을 보장합니다. 또한 숙련된 운영자와 새로운 스텝핑 (stepping) 기술을 모두 사용할 수 있습니다.