판매용 중고 NIKON UGRMEM-01SNQ12 UTOPI-100MX #293668732

NIKON UGRMEM-01SNQ12 UTOPI-100MX 웨이퍼 스테퍼는 칩 제조 및 사진 해설에 사용되는 장치입니다. 니콘 (NIKON) 이 제작 한이 스테퍼는 고해상도 이미지를 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 에 정확하게 투영하여 기판을 처리하도록 도와줍니다. 이 스테퍼는 반사 방지 필름, 스테인리스 스틸 베이스, 에어베어링 장비로 구성된 웨이퍼 스테이지를 사용합니다. 이 웨이퍼 단계 (wafer stage) 는 웨이퍼 처리의 기본 요구 사항인 정확한 이동 및 정확한 정렬을 가능하게 합니다. 이 "웨이퍼 '스테퍼' 로 구현 된" 포토리토그래피 '공정 은 전자 로 생성 된 무늬 로 시작 되는데, 이 무늬 는 보통 "캐드 파일' 로 구성 되어 있으며, 그 다음 에 일련 의 거울 과 광학" 렌즈 '로 빛 을 생성 하는 데 사용 된다. 빛은 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 에 투영되고 화학 물질의 혼합물에 의해 처리되어 패턴 (pattern) 또는 엠블럼 (emblem) 을 형성한다. 이 설정을 사용하면 자외선 (UV light) 을 높은 정확도와 적절한 방법으로 기판에 투영하여 여러 이미지 배치가 발생할 수 있습니다. UGRMEM-01SNQ12 UTOPI-100MX 웨이퍼 스테퍼에는 자동 패턴 일치 시스템 (APMS) 도 통합되어 있습니다. 이 장치는 원하는 기판 레이아웃에 따라 웨이퍼 (wafer) 패턴을 전자적으로 인식하고 정확하게 정렬하여 모든 이미지를 올바르게 배치하도록 설계되었습니다. 또한 APMS 시스템을 사용하여 이미지의 크기와 비율을 조정할 수 있습니다. 웨이퍼 (wafer) 처리 과정의 정확성과 정밀도를 더욱 보장하기 위해 이 스테퍼에는 서브픽셀 크기 측정 (subpixel size measurement) 과 제어 기술 (control technology) 이 포함되어 있으며, 이는 잘못된 정렬을 자동으로 감지하고 광원 투영을 조정합니다. 이 스테퍼에는 최종적인 Wafer 품질 요구 사항을 충족하는 최적화 (Optimization) 기능도 포함되어 있습니다. 이 최적화 기능에는 자동 노출 시간 제어, 자동 8 오프셋 측정, 균일 노출 및 균일 한 저항 프로파일이 포함됩니다. 이러한 모든 기능은 웨이퍼 (wafer) 컴포넌트의 품질을 극대화하고 일관성을 극대화하는 것을 목표로합니다. NIKON UGRMEM-01SNQ12 UTOPI-100MX가 지속적으로 정확한지 확인하려면 정기적으로 유지 보수해야합니다. 이를 위해 제조업체는 공구를 올바르게 유지 관리 및 운영하는 방법에 대한 자세한 설명서를 제공했습니다 (영문). 이 설명서에는 웨이퍼 스테이지 유지 관리 방법, 에어베어링 에셋 (Air Bearing Asset) 및 Photolithography 프로세스에 대한 간략한 지침이 포함되어 있습니다. UGRMEM-01SNQ12 UTOPI-100MX 웨이퍼 스테퍼는 칩 제작 및 사진 촬영 제작에 필수적인 도구가되었으며 정확하고 반복 가능한 패턴 배치로 유명합니다. APMS 모델과 최적화 (optimization) 기능이 통합되면서, 사용자는 이 스테퍼가 각 용도별로 가능한 가장 높은 결과를 얻을 수 있다고 확신 할 수 있습니다.