판매용 중고 NIKON S204B #9190274

NIKON S204B는 반도체 장치 제작의 포토 리토 그래피 (photolithography) 프로세스에 사용되는 완전 자동화 단계 및 반복 웨이퍼 스테퍼입니다. 노출 면적이 1x1mm ~ 4x4mm인 5 축 구성입니다. NIKON S 204 B에는 광학 이미징 프로세스를 자동화하는 모든 기능을 갖춘 하드웨어 및 소프트웨어 플랫폼이 포함되어 있습니다. 그것 은 "할로겐 '등 과 동봉 된" 라이트 챔버' 를 사용 하여 사진술 에 사용 할 수 있도록 최대 300nm 의 빛 을 만들어 낸다. 이를 통해 모든 단계 크기에서 해상도 이미징 (Imaging) 을 높이고 완성 된 칩의 정확도를 향상시킬 수 있습니다. 스테퍼는 기계적 및 광학적 구성 요소 덕분에 2 미크론의 3 배 반복 정확도를 갖습니다. 스테퍼는 1.2NA 렌즈가있는 고성능 1 배 감소 광학 시스템 (와퍼에서 더 밝고 더 선명한 이미징) 을 포함합니다. 표준에서 고급 커스텀 웨이퍼 (custom wafer) 분석에 이르기까지 다양한 레티클이 장착되어 있습니다. 이미징 프로세스를 최적화하기 위해 S204B에는 정렬 및 조정 기능도 포함되어 있습니다. 고유한 정렬 시스템에는 노출 영역 오류를 줄이기 위해 웨이퍼 모서리를 감지하여 자동 포커싱 (auto-focusing) 과 각 칩을 정확하게 찾을 수있는 자동 로케이터 (auto-locator) 가 포함됩니다. 게다가, "웨이퍼 '는" 와퍼' 가 영상 이 일어나기 전 에 균일 한 상태 를 유지 할 수 있도록 "와퍼 '평탄도 탐지 도구 와 함께 사용 된다. S 204 B는 능률적이고 강력한 이미징 기술로 현대의 반도체 산업 요구를 충족시킵니다. 직관적인 사용자 인터페이스를 사용하면 프로세스 자동화를 원활하게 수행할 수 있으며, 이미징 기능을 통해 탁월한 생산성을 얻을 수 있습니다. 이 모델은 프로세스 개발 및 생산 수준 생산에 적합하며, 반도체 리소그래피 (lithography) 를 위한 가장 안정적이고 비용 효율적인 솔루션 중 하나입니다.