판매용 중고 NIKON S204B #293824311

NIKON S204B는 반도체 장치 제작에 사용되는 웨이퍼 스테퍼입니다. 자외선 (UV light) 을 통해 전면 표면에 포토 마스크 배열로 단일 웨이퍼를 노출 할 수 있습니다. 이 제품은 회로 (Line) 및 공간 (Space) 의 고해상도 이미징을 위한 고급 광학 장비를 갖추고 있어 마스크 제작 및 장치 제작에 이상적입니다. NIKON S 204 B에는 빠르고, 제어되고, 정확하게 정렬 할 수있는 고급 레이저 Aligner가 장착되어 있습니다. 레이저 정렬 (Laser Aligner) 을 사용하면 노출 단계에서 포토 마스크 (photomask) 를 웨이퍼에 정확하게 조준할 수 있는 일련의 좌표를 입력할 수 있습니다. 또한 미세 제어, 토크 (torque) 및 속도 제어 기능은 모두 안정적이고 반복 가능한 프로세스에 기여합니다. S204B에는 Single BEAM과 Dual BEAM의 두 가지 패턴 이미징 시스템이 장착되어 있습니다. 단일 BEAM (Single BEAM) 시스템은 각각 자체 패턴 투영 단위를 가진 2 개의 UV 광원으로 구성되며, 사용자는 웨이퍼에 투영 된 패턴의 위치를 독립적으로 조정할 수 있습니다. 듀얼 빔 (Dual BEAM) 머신은 4 개의 광원으로 구성되어 있으며, 사용자가 웨이퍼에 두 개의 패턴을 동시에 투영할 수 있습니다. S 204 B 에는 소프트웨어 알리너 (Software Aligner) 도 포함되어 있으며, 개별 애플리케이션에 대한 요구 사항을 충족하기 위해 Wafer 의 패턴 배치를 대화식으로 조정할 수 있습니다. "소프트웨어 조정기 (Software Aligner)" 는 마이크로 환경에서 가상 정렬을 허용하며, 운영자가 웨이퍼에 투사된 패턴의 위치를 세밀하게 조정할 수 있습니다. 또한 소프트웨어 얼라이너 (Software Aligner) 는 다양한 시뮬레이션 및 최적화 도구를 제공하여 정렬 프로세스를 빠르고 효율적으로 수행할 수 있습니다. 니콘 S204B (NIKON S204B) 에는 고급 웨이퍼 처리 도구 (Advanced Wafer Handling Tool) 가 장착되어 있어 전체 노출 과정에서 와퍼의 안전하고 정확한 운송이 가능합니다. 에셋에는 듀얼 스테이지 로봇 암 (Dual Stage Robotic Arm) 이 장착되어 있어 웨이퍼를 정확하게 적재 및 언로드할 수 있습니다. 또한, 내장 모델은 첫 번째 노출이 완료되면 웨이퍼를 정확히 180도 회전시킵니다. NIKON S 204 B는 고급 반도체 장치의 성공적인 제작에 필요한 모든 것을 제공하는 종합 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 장비입니다. 첨단 광학 및 패턴 배치 시스템 (Advanced Optical and Pattern Placement System) 이 장착되어 있어 회로 패턴 (Line and Space) 의 높은 정밀도 이미징과 웨이퍼의 안전하고 정확한 운송을 위한 신뢰할 수있는 웨이퍼 처리 시스템이 가능합니다.