판매용 중고 NIKON R2205HA #293664649

NIKON R2205HA는 웨이퍼 스테퍼입니다. F2 레이저 및 Synchronous Scanning System (SSS) 기술을 사용하여 뛰어난 이미지 제어 및 정확도를 제공하는 풀 필드 스테퍼 장비입니다. 이 장치는 논리, 메모리, 특히 미세 라인 장치 (fine line device) 와 같은 반도체 생산 응용 프로그램에서 광학 기반 석판화를 위해 설계되었습니다. 즉, 광범위한 광 정렬 (Optical Alignment) 및 초점 (Focusing) 기능을 제공하여 생산되는 장치의 가장 높은 충실도를 보장합니다. R2205HA 스테퍼는 이중 스크립트 스캔 머신을 사용하여 노출 과정을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이 도구는 패턴 데이터 변조 (pattern data modulation), 타이밍 (timing) 및 영역 스캐닝 (area scanning) 을 조합하여 노출 프로세스를 정확하게 제어하도록 설계되었습니다. 이를 통해 스테퍼는 생산되는 각 장치에 대해 초점, 해상도, 오버레이 (overlay) 매개변수를 매우 정확하게 생성할 수 있습니다. NIKON R2205HA는 5 "x7" 시야의 25 나노 미터 해상도를 가지고 있습니다. 한 번의 노출로 수백만 개의 기능을 패턴화 할 수 있으며, 샷 시간은 0.075 초입니다. 또한 10 분의 1 나노 미터까지 매우 일관된 노출 정확도를 갖습니다. 스테퍼는 실리콘 웨이퍼, 유리 플레이트, 석영 기판 및 기타 재료와 호환됩니다. 또한 R2205HA는 고급 유연하게 향상된 고속 스캔 (FEHS) 자산을 제공합니다. 이 모델은 장비에 대해 고유하게 제어되는 레이저 소스를 제공합니다. 이 감소 된 "레이저 '광선 크기 와" 스팟' 크기 는 특징 을 폭로 할 때 보다 빠른 전달 속도 로 번역 된다. NIKON R2205HA에는 다양한 소프트웨어 기능이 제공됩니다. 예를 들어, 온다이 계산을 수행하고 노출 매개 변수를 최적화하는 통합 MPT (Math Precision Tool) 시스템이 있습니다. 또한 쉽게 처리할 수 있도록 저장하고 리콜할 노출 라이브러리 (Library of exposure) 를 생성할 수도 있습니다. 이 스테퍼에는 에지 피팅, 등록 확대/축소, 디포커스 스캔 등 다양한 정밀 자동 정렬 기능이 제공됩니다. 전반적으로, R2205HA 웨이퍼 스테퍼는 뛰어난 이미지 충실도와 정확도를 생성 할 수있는 정교한 장치입니다. 수많은 기능을 통해 사용자에게 가장 많은 리소그래피 제어 및 정밀도를 제공합니다. 이 기계는 최고 수준의 제어 (control) 와 정확도가 필요한 리소그래피 (lithography) 응용 프로그램에서 사용하도록 설계되었습니다. 다양한 소재와 호환되는이 제품은 반도체 생산 공정 중 최첨단 (Advanced of Semiconductor Production Process) 을 위한 완벽한 옵션입니다.