판매용 중고 NIKON NSR TFH EX14C #9276258
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NIKON NSR TFH EX14C는 높은 생산성을 위해 설계된 최첨단 Deep-UV 웨이퍼 스테퍼입니다. 고성능 RI (Reflection Index) 소스 (최대 350W @ 248nm) 가 장착 된 NIKON NSR TFHEX14C는 정교함과 반복 성에서 뛰어난 석판 성능을 제공합니다. NSR TFH EX14C에는 고급 4 사분면 자동 정렬 장비가 장착되어 있어 웨이퍼의 X-Y 위치를 확인하고 즉석에서 정렬하여 웨이퍼를 매우 정확하게 정렬할 수 있습니다. 또한, 전체 자동화 시스템은 인적 오류를 크게 줄여 NSR TFHEX14C가 빠른 속도로 노출 될 수 있도록 지원합니다. NIKON NSR TFH EX14C는 초점면에 고급 이미징 시스템 (Advanced Imaging System) 을 장착하여 투사 렌즈의 수차를 보상하고 회절 이미지 정확도를 ± 3äm로 유지합니다. 이 장치의 미세 패턴을 생성 할 때 7nm 해상도와 0.1äm 정확도가 가능합니다. NIKON NSR TFHEX14C의 반사 소스 유닛 (Reflex Source Unit) 은 적절한 광원 분산으로 광원을 웨이퍼쪽으로 이동하여 이미지 노출 균일성을 향상시킵니다. 리플렉스 소스 머신 (Reflex Source Machine) 은 샷 간 변형을 줄일 수있는 뛰어난 특성을 가지고 있으며, 레이아웃 클러스터링을 크게 줄입니다. 고급 높은 NA 옵틱은 높은 NA 옵틱에 비해 노출 시간을 2 ~ 10 배로 줄여 훨씬 짧은 노출 시간을 제공합니다. 필드 깊이가 20% 향상된 탁월한 이미징 성능과 더불어 디포커스 (defocused) 패턴을 정확하게 재현하는 소스 (at-source) 초점 기능이 향상되었습니다. NSR TFH EX14C의 고급 PCB (Process Control Board) 는 노출 도구의 처리량과 일반성을 향상시킵니다. 또한 사용이 간편한 직관적인 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 와 사용자 친화적인 탐색 및 관리 기능을 통해 운영자가 여러 프로세스를 효율적으로 모니터링하고 제어할 수 있습니다. 마지막으로 NSR TFHEX14C 는 우수한 소스 전원 관리 기능을 제공하는 대용량 소스 자산 (mass source asset) 을 갖추고 있어 잠재적인 소스 전원 문제를 방지합니다. 이것은 매우 안정적인 노출 성능으로 해석됩니다. NIKON NSR TFH EX14C는 대용량 노출 웨이퍼 리소그래피에 이상적인 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 제품은 높은 생산성과 우수한 석판화 성능을 제공하면서, 인류의 오류를 대폭 줄일 수 있도록 설계되었습니다.
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