판매용 중고 NIKON NSR SF200 #293817923
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ID: 293817923
i-Line stepper
Numerical Aperture (NA): 0.63
Resolution: 150 nm
DCO: 28
Throughput (WPH): 110-120.
NIKON NSR SF200은 중요한 웨이퍼 프로세스 매개변수를 측정하는 데 매우 정확하고 정확하도록 설계된 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. 첨단 마스크 검사 (Advanced Mask Inspection) 및 정렬 (Alignment) 기술 중 최신 기술을 활용하여 비접촉 (Non-Contact) 및 접촉 (Contact) 측정에 대한 뛰어난 성능과 정확성을 제공합니다. 유연한 설계로, NIKON NSR SF 200은 제조업체에 웨이퍼 레벨 테스트, 컴포넌트 검사, 조립 및 다이 정렬을 포함한 다양한 응용 프로그램 가능성을 제공합니다. NSR SF200 은 200mm 의 대형 필드 크기와 조절 가능한 작업 거리 (working distance) 로 설계되어 소형 폼 팩터에서 뛰어난 이미징 성능과 높은 정확도를 모두 제공합니다. 또한, 4 "- 200mm에서 다양한 웨이퍼 크기와 최대 0.003 um의 미세한 스텝 크기를 처리 할 수 있습니다. 또한, NSR SF 200 의 고급 조명 시스템 (Advanced Lighting System) 은 다양한 검사 또는 정렬 작업의 요구 사항을 충족시키기 위해 조명 강도와 각도를 소중하게 제어할 수 있습니다. NIKON NSR SF200은 자동 결함 감지, 에지 감지, 객체 인식, 마크 감지, 이미지 정렬 등의 강력한 이미지 처리 알고리즘과 기능을 제공합니다. 이러한 기능을 통해 NIKON NSR SF 200을 사용하면 웨이퍼 수율 문제를 일으킬 수 있는 결함을 신속하게 감지하고 분석할 수 있습니다. 또한, 고급 이미지 감지 기술은 또한 밀리미터 이하의 해상도에 대한 뛰어난 가장자리 인식 정확도를 제공합니다. 다용도 온보드 소프트웨어를 사용하면 다양한 어플리케이션에 맞게 시스템을 쉽게 구성하여 정확성과 효율성을 극대화할 수 있습니다 (영문). 또한 고급 사전 정렬 도구 (Advanced Pre-aligner Tool) 를 사용하여 고급 검사 시스템에 필요한 미세 정렬 단계를 신속하게 설정하고 구성할 수 있습니다. 또한, NSR SF200 의 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 시스템 설정을 쉽게 구성하고 프로세스 결과를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 마지막으로 NSR SF 200 은 매우 낮은 진동 성능 (Wafer Fabrication Process) 으로 설계되어 웨이퍼 구성 프로세스의 정확성과 안정성이 더욱 향상되었습니다. 다양한 운영 기능, 유연성, 정확성, 고급 기능을 제공하는 NIKON NSR SF200 은 스테퍼 시스템의 높은 정확성과 신뢰성을 원하는 최신 Wafer Fabrication Facility 에 적합한 제품입니다.
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