판매용 중고 NIKON NSR SF140 #9351392

NIKON NSR SF140 웨이퍼 스테퍼는 고급 석판화를위한 고정밀 도구입니다. 반도체 소자의 대용량 생산을 위해 설계된 노출장비다. 최대 20 나노 (20 nm) 크기의 IC를 생산할 수 있다. 이 시스템에는 정밀한 정렬 및 초점을 맞추기 위해 가변 확대 렌즈 장치와 SPDM (Software Package for Device Manufacturing) 제어 소프트웨어가 장착되어 있습니다. NIKON NSR-SF140은 X 축과 Y 축 모두에서 기판을 정확하게 이동할 수 있으며 필요에 따라 회전시킬 수 있습니다. 스테퍼 모터를 사용하여 IC의 각 레이어를 정확하게 배치하기 위해 90도 회전 각도로 쿼츠 유리 스테핑 단계 (quartz glass stepping stage) 를 구동합니다. 스테퍼에는 최적의 노출 조건을 보장하기 위해 정밀 정렬 기계가 있습니다. NSR SF 140 은 다양한 웨이퍼 처리 작업을 수행할 수 있습니다. 레이저 다이오드 (laser diode) 또는 연속 방사선 (continuous radiation) 을 사용하여 레이어를 노출시킬 수 있으며 개발 작업도 수행 할 수 있습니다. 이전 레이어에 대해 후속 레이어를 정렬합니다. 에치 및 예금 재료; 완료된 제품을 검사하고 테스트합니다. NIKON NSR SF 140 은 매우 정확한 리소그래피 툴로서, 고품질 디바이스를 만드는 데 필수적인, 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 8 인치 웨이퍼 (wafer) 호환성이 있으며 시간당 최대 5,000 웨이퍼의 높은 생산 처리율로 작동하도록 설계되었습니다. NSR SF140은 고정밀 광학 도구를 사용하며, 0.005 -m 정렬 정확도 및 0.1 -m 이미지 반복성을 사용할 수 있습니다. 이 자산은 방사능 저항성이며, 수율 증가를위한 진동 보상 기술 (Vbration Compensation Technology) 이 장착되어 있습니다. 정확하고 빠른 운영을 통해 최고 수준의 품질 (Quality) 과 낮은 생산 비용을 보장할 수 있습니다. 또한 NSR-SF140 은 고급 안전 기능을 갖추고 있으며, 수명이 길어 가동 시간이 최적으로 단축됩니다. 또한 통합 진단 도구와 손상 방지 (Damage Prevention) 기능이 장착되어 있어 장치 생산량이 향상되었습니다. 또한 이 모델에는 조정 정확도 및 처리량 향상을 위한 종속 노출 (Cascaded Exposure) 아키텍처가 장착되어 있습니다. 요약하면, NIKON NSR SF140은 고도로 정교하고 정확한 웨이퍼 스테퍼 장비입니다. 가변 확대 렌즈 시스템 (variable-magnification lens system) 과 복잡한 정확도 제어 소프트웨어 (complex accuracy control software) 를 탑재하여 최적의 성능을 제공하며, 고수율 및 처리량으로 다양한 작업을 수행 할 수 있습니다. 이 기계는 안전 기능이 잘 갖추어져 있으며, 수명이 길어 고급 리소그래피 (lithography) 애플리케이션에 이상적인 선택입니다.