판매용 중고 NIKON NSR SF130 #9357746

NIKON NSR SF130은 최첨단 웨이퍼 스테퍼로, 사진 해설에서 정확한 해상도로 유명합니다. 여러 기판 및 재료에 대한 사진 인쇄 (photolithography printing) 작업을 수행하여 사용자가 다양한 제품을 쉽게 생산할 수 있습니다. 이 최첨단 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 는 정확한 패턴 디테일 (pattern details) 을 사용해도 정확하고 신뢰할 수 있는 성능을 제공하고 작은 런으로 복잡한 패턴을 만들 수 있도록 특별히 설계되었습니다. NIKON NSR-SF130 은 0.45nm 의 매우 높은 해상도를 제공하는 혁신적인 고급 렌즈 (lens) 장비를 활용하여 패턴 형태와 크기를 정확하게 제어할 수 있습니다. 고급 레티클 시스템을 사용하여 스테퍼는 사각형, 사각형, 원, 육각형, 복잡한 패턴 등 다양한 크기와 모양을 지원할 수 있습니다. 이 기능을 사용하면 복잡한 패턴에서도 유연성을 높일 수 있으며, NSR SF 130 (Small Run 및 Fine Surface) 기능으로 패턴을 완벽하게 선택할 수 있습니다. NSR-SF130 은 컴팩트한 설계를 통해 모든 설치 환경에 간편하게 통합할 수 있습니다. 스캐닝 전자 및 이온 현미경 시스템, EDX 및 OIM 시스템을 포함한 대부분의 표준 스테퍼 및 장비와 호환됩니다. 이러한 호환성을 통해 사용자는 데이터를 쉽게 액세스하고, 검사를 수행하고, 다른 작업을 수행할 수 있습니다. "스테퍼프 '는" 나노미터' 정밀도 내 에 필요 한 기판 노출 을 달성 하기 위하여 전동 "스테이지 '를 사용 하여 고도 의 노출 시동 장치 를 더욱 갖추고 있다. 노출 시작 머신 (Exposure Start Machine) 과 내장 노출 컨트롤러 (Exposure Controller) 를 통해 사용자는 미리 정의된 영역에만 노출되거나 전체 노출 영역에 노출될 수 있으므로 노출을 완벽하게 제어할 수 있습니다. NSR SF130 의 독보적인 기능은 고정밀 노출 스타트 툴 (Exposure Start Tool) 및 노출 컨트롤러 (Exposure Controller) 와 결합하여 매우 안정적이고 강력한 포토리스토그래피 스테퍼입니다. 고급 렌즈 자산, 자동 노출 제어 (Automated Exposure Control), 패터닝 기능의 유연성을 통해 작은 런으로 섬세한 패턴을 생산할 수 있습니다.