판매용 중고 NIKON NSR SF130 #9222618

NIKON NSR SF130은 정확한 웨이퍼 처리 기능을 제공하기 위해 설계된 정교한 웨이퍼 스테퍼 도구입니다. 이 정교한 스테퍼는 포커스 정렬, 오버레이 정렬, 노출 노출 등 다양한 주요 기능을 지원합니다. NIKON NSR-SF130 은 다양한 Wafer Processing 애플리케이션을 위한 탁월한 정확성과 반복성을 제공하는 Stepper 기술을 사용합니다. 노출 제어 및 포커싱의 정확도는 자동 조향 2축 (Auto-Steering 2-axis) 단계를 통해 달성되며, 이를 통해 웨이퍼를 원하는 위치의 나노미터 (nanometer) 내에 정확하게 배치할 수 있습니다. 내장 정렬 장비는 패턴 인식 (pattern recognition) 구조를 활용하여 노출 대상이 매우 가까이 놓여도 웨이퍼의 패턴화된 영역을 정확하게 정렬할 수 있습니다. SF130 은 고급 (Advanced) 노출 시스템으로 인해 높은 수준의 처리량을 달성할 수 있습니다. 노출 장치에는 웨이퍼 전체에 균일 한 노출을 보장하는 2 개의 독립적 인 소스가 있습니다. 이 다중 소스 머신은 시간 공유, 다중 빔, 단일 커플러 및 쿼드 CMOS 노출 기술을 포함한 다양한 파장 및 조명 유형을 지원합니다. 노출 도구 (Exposure Tool) 는 이중 동시 노출 기능으로 향상되었으며, 이는 주기 시간의 절반으로 출력을 두 배로 늘릴 수 있습니다. NSR SF 130 웨이퍼 스테퍼는 또한 유명한 초점 제어를 제공하는 통합 XY 종속 자동 초점 자산을 갖추고 있습니다. 자동 초점 (Auto-Focus) 모델은 모서리 감지 및 그라디언트 기반 기술을 결합한 독점 알고리즘을 사용하여 최적의 노출 초점을 자동으로 결정합니다. 이 장비에는 또한 자동 초점 성능을 더욱 최적화하고 원하는 노출 초점 (exposure focus) 에서 작은 오프셋을 보완하는 혁신적인 능동형 초점 외 제어 (Out-of-focus control) 가 포함되어 있습니다. NIKON NSR SF 130 은 최첨단 Wafer Stepper 툴로서 Wafer 처리를 위한 탁월한 정확성, 반복성 및 처리량을 제공합니다. 이 툴은 높은 수준의 정확성과 재현성이 필요한 반도체 리소그래피 (lithography) 애플리케이션을 위한 강력하고 안정적인 솔루션을 제공합니다. 다양한 노출 시스템, 통합 자동 초점 장치 (auto-focus unit) 및 고급 정렬 기능을 통해 SF130 은 까다로운 프로세스를 위한 탁월한 선택이 가능합니다.