판매용 중고 NIKON NSR SF130 #293630223

NIKON NSR SF130은 고성능 집적 회로 및 기타 마이크로 일렉트로닉 (microelectronic) 부품 생산에서 리소그래피 처리에 사용되는 전문 웨이퍼 스테퍼입니다. VSB (Variable Shape Beam) 및 SFI/NSI (Selective Focus/Non-Selective Illumination) 와 같은 고급 고급 스캔 방법을 사용하여 노출 후 해상도를 최대화하고 패턴 충실도를 향상시키고 정확한 패턴 전송을 보장합니다. NIKON NSR-SF130 은 프로그래밍 가능한 스캔 (scan) 단계를 활용하여 석판화 마스크 및 기판의 이동 및 위치 설정에서 상당한 유연성을 제공하며, UV 레이저는 극도로 정밀하게 기판에 마스크 패턴을 추적합니다. 이 스캔 단계는 위치 지정 (X, Y 및 -) 정확도 0.05 m로 최대 8 인치 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 스캔의 반복 성도 0.1 m에서 매우 우수합니다. 이 스테퍼는 또한 레이저 전력 및 노출 시간을 정확하게 제어하는 고정밀 용량 제어 장비 (high-precision dose control equips) 와 기판의 평탄성과 병렬성을 유지하는 진공 척 시스템 (vacuum chuck system) 을 갖추고 있습니다. 또한 NSR SF 130 (closed-loop regulator unit) 은 마스크의 열 팽창으로 인한 수차 감소를 보장하여 고해상도 인쇄를 보장합니다. 뛰어난 정확성과 성능 외에도 NSR SF130 역시 매우 효율적입니다. 내장형 고정밀도 웨이퍼 정렬 머신 (High-Accuracy Wafer Alignment Machine) 은 노출 프로세스 전반에 걸쳐 웨이퍼의 위치를 모니터링하고 조정하는 최적화된 Focus Control 툴과 마찬가지로 설정 시간이 단축되고 생산성이 향상됩니다. 또한, 열 확산 레이저 밀봉 모듈은 자산의 열 복사를 크게 줄여 전체 모델 안정성을 향상시킵니다. 전반적으로 NSR-SF130 은 매우 정확하고 빠른 속도로 고해상도 (High-Resolution) 인쇄물을 제공할 수 있는 놀랍도록 고급적이고 강력한 웨이퍼 스테퍼입니다. 집적 용량 제어 장비, 매우 정확한 스캔 단계, 웨이퍼 정렬 시스템, 최적화된 초점 제어 장치 덕분에 NIKON NSR SF 130 은 높은 품질의 집적 회로와 기타 마이크로 일렉트로닉 (microelectronic) 구성 요소를 안전하게 생산하는 데 적합합니다.