판매용 중고 NIKON NSR SF130 #293603896
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ID: 293603896
i-Line stepper
EFEM
Projection lens
Illumination unit
Interferometer laser (Wafer stage)
Interferometer laser (Reticle stage)
Control rack
Temperature unit
Operation unit
Pneumatic control box
RL-LIB10MP Board
6-Axis vibration measurement unit
Wafer holder
Chemical filter
Wafer reticle
Lamp house cool unit
Power supply box
Illumination power uniformity:
Power: 619.474 mw / cm²
Uniformity: 2.229%
Stepping accuracy step:
X: 10
Y: 13
Stepping accuracy back:
X: 9
Y: 11
Inclination:
TFD: 0.068
AS: 0.029.
NIKON NSR SF130은 고해상도 렌즈와 조정 가능한 조명 수준을 갖춘 DUV (Deep Ultraviolet) 웨이퍼 스테퍼로, 고급 석판 처리 및 응용 프로그램에 적합합니다. 이 장비는 최대 13nm 크기의 매우 높은 해상도를 달성 할 수 있습니다. 이 해상도는 종종 고급 프로세서 노드 리소그래피 (lithography) 와 반도체 산업의 다른 고급 응용 프로그램 (advanced application) 에 필요합니다. NIKON NSR-SF130 스테퍼에는 성능 향상을 위해 설계된 여러 기능이 있습니다. NIKON Enhanced OSA (NIKON Enhanced OSA) 가 장착되어 있어 웨이퍼 표면의 기능을 자동으로 감지하여 노출 설정을 최적화할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 노출 중 웨이퍼 동작 중에 발생할 수 있는 위치 오류 (positional error) 를 보완하는 호 (arc) 모양의 창을 갖추고 있습니다. 또한 NSR SF 130 에는 4 개의 포트 광 스캐닝 모듈이 있어 멀티빔 스캐닝 기능을 용이하게 합니다. 해상도 측면에서 NSR-SF130은 고급 2 상 4 단 렌즈 장치를 통해 13nm 이미지를 생성 할 수 있습니다. 또한 최대 300 x 400 mm 면적의 노출 필드와 시간당 최대 480 개의 웨이퍼 속도를 생성 할 수 있습니다. 결과적으로, 기계는 다양한 도전적인 석판 (lithographic) 응용 프로그램에 적합한 다양한 옵션을 제공합니다. 또한 NSR SF130 은 다양한 노출 파장, 조명 수준, 노출 필드, 프로그래밍 가능한 웨이퍼 전송 시스템 (Wafer Transfer System) 으로 구성할 수 있습니다. 고해상도 CCD 이미징 툴을 활용하여 신속하게 노출 피드백 (Fedback) 을 제공하고, 자산을 실시간으로 조정할 수 있습니다. 마지막으로, NIKON NSR SF 130 모델은 간편한 그래픽과 사용이 간편한 작업을 통해 사용자 친화적으로 설계되었습니다. 직관적인 인터페이스를 사용하여 데이터 입력, 노출 설정 조정, 노출 결과 검토 등을 수행할 수 있습니다. 이 장비에는 노출 모니터링, 결함 검토, 프로세스 매핑 등 다양한 고급 소프트웨어 (advanced software) 기능이 함께 제공됩니다. 이러한 모든 기능은 리소그래피 (lithography) 프로세스를 간소화하고, 운영자가 효율성과 정확성을 더욱 쉽게 유지할 수 있도록 설계되었습니다.
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