판매용 중고 NIKON NSR SF120 #9227511

NIKON NSR SF120은 고급 리소그래피 프로세스를 위해 설계된 고성능 웨이퍼 스테퍼입니다. 대형 조리개 렌즈 장비와 풀 필드 스테퍼 (full-field stepper) 의 높은 광원소 해상도를 결합한 것입니다. 이 조합을 통해 NIKON NSR-SF120은 높은 정밀 이미징 및 최대 웨이퍼 처리량을 제공하는 한편, 나노 미터 수준에서도 뛰어난 재현성을 유지할 수 있습니다. 이 시스템에는 프로세스 변형을 최소화하기 위한 강력한 스캔 전력 (scan-power optimization) 이 포함된 고급 제어 장치 (advanced control unit) 가 장착되어 있습니다. 소프트웨어 제어 광학 정렬을 통해 웨이퍼 (wafer) 표면에 패턴을 정확하게 배치할 수 있으므로 패턴 전송 (pattern transfer) 오류가 줄어듭니다. 더 나은 정렬 정확도로, 기능 크기 및 오버레이 안정성은 서브 미크론 레벨 내에서 유지 될 수 있습니다. NSR SF 120 은 단일 단계 툴에 비해 높은 이미지 처리량을 제공하는 full-field imaging machine 을 사용합니다. 조리개 0.75X, 필드 크기 10.8mm의 고해상도 광학을 사용하여 최대 7nm의 임계 크기 (CD) 의 패턴을 허용합니다. 또한이 자산은 5 "~ 16" 범위의 마스크를 수용 할 수 있습니다. 이 모델은 고급 제어 장비 (Advanced Control Equipment) 덕분에 반복 및 노출 안정성 측면에서 탁월한 성능을 제공합니다. 또한 생산 수율을 높이고 수율을 극대화 할 수있는 뛰어난 준비 정밀도를 제공합니다. NSR SF120의 기능에는 수동 또는 원격 작동을 위한 직관적인 콘솔 GUI, 통합 스캔 및 모양 측정 시스템, 고속 이미지 전송을위한 고속 인터페이스, 개선된 k1 균일성을 위한 자동 중심 기능, 데이터 오버헤드 감소를위한 메모리 장치 등이 있습니다. 고품질 리소그래피 (lithography) 를 보장하기 위해 기계는 직접 조명기 제어를 위한 듀얼 드웰 (dual-dwell) 도구로 설계되었습니다. 이 자산은 고정 스캔 패턴과 가변 패턴 전환과 함께 중앙 영역 조명 (center-zone illumination) 을 사용하여 분할 노출을 제공 할 수 있습니다. NIKON SF120은 이미징의 정확성과 패턴의 정밀도가 중요한 고급 석판화 (lithography) 프로세스를 위한 고성능 솔루션을 제공합니다. 탁월한 제어 장비와 고속 데이터 전송 (Fast Data Transfer) 기능을 결합한 탁월한 광 모델 (Optical Model) 을 통해 처리량, 생산량 및 반복성이 향상됩니다. 고해상도 광학 장치 (optic) 와 뛰어난 패턴 형성 정확도는 성공적인 석판화 응용 분야에 필요한 도구를 제공합니다.