판매용 중고 NIKON NSR S636E #293817898
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ID: 293817898
ArF Immersion scanner
Numerical Aperture (NA): 1.35
Resolution: 38nm
MMO: 2.1
Throughput (WPH): 280.
NIKON NSR S636E는 광학 계측 및 이미징 기술의 글로벌 리더 인 NIKON Corporation에서 설계 및 제조 한 최첨단 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 고급 사진 식자술 장비 는 "반도체 '제조 공정 의 까다로운 요구 조건, 특히" 실리콘 웨이퍼' 에 집적 회로 를 생산 하기 위한 요구 조건 을 충족 시키도록 설계 되었다. NSR S636E 는 정밀 옵틱과 최첨단 기능을 통해 반도체 기판의 고해상도 패턴화 (patterning) 및 이미징 (imaging) 기능을 통해 생산 환경에서 탁월한 성능과 신뢰성을 제공합니다. 니콘 NSR S636E (NIKON NSR S636E) 의 핵심에는 정교한 광학 시스템이 있는데, 이 시스템은 일련의 고성능 렌즈, 미러, 정렬 메커니즘을 통합하여 웨이퍼 표면에 빛을 정확하게 집중시키고 투사합니다. 이 장치는 200 나노미터 미만의 파장에서 작동하는 깊은 자외선 (DUV) 광원을 사용하여 서브 미크론 해상도로 매우 작은 기능의 패턴을 만들 수 있습니다. 스테퍼의 고급 조명기 (advanced lumination machine) 는 다양한 파장 및 모드로 조정될 수 있으며, 다양한 유형의 리소그래피 프로세스에 대한 노출 매개변수를 최적화하는 유연성을 제공합니다. NSR S636E 는 고정밀 (high-precision) 모션 제어 메커니즘을 갖춘 견고한 웨이퍼 스테이지 (wafer stage) 를 갖추고 있어 노출 중에 웨이퍼를 정확하게 포지셔닝하고 정렬할 수 있습니다. 이 도구는 스텝 앤 스캔 (step-and-scan) 모드와 스텝 앤 리피트 (step-and-repeat) 모드를 모두 지원하므로 단일 웨이퍼에서 여러 다이 (die) 를 원활하고 효율적으로 패턴화할 수 있습니다. 스테퍼의 스테이지 컨트롤 (Stage Control) 자산에는 궤적 계획 및 동적 오류 수정을위한 고급 알고리즘이 포함되어 전체 웨이퍼 표면에서 안정적이고 일관된 오버레이 정확성을 보장합니다. NIKON NSR S636E 는 광/기계 기능 외에도 다양한 스마트 자동화 (Smart Automation) 기능을 갖추고 있어 리소그래피 프로세스를 간소화하고 생산성을 향상시킵니다. 이 모델은 자동 레시피 생성, 웨이퍼 정렬, 노출 매개변수 최적화 등을 지원하는 고급 리소그래피 (lithography) 소프트웨어와 통합됩니다. 또한, 스테퍼에는 실시간 프로세스 피드백을 위한 현장 모니터링 및 제어 시스템이 포함되어 있으므로 정확하고 반복 가능한 패턴화 결과를 얻을 수 있습니다. 안정성 및 가동 시간 향상을 위해 NSR S636E 는 견고한 열 제어 (thermal control) 장비로 설계되어 안정된 운영 환경을 유지하고 노출 시 열 드리프트 (drift) 를 최소화합니다. 스테퍼의 웨이퍼 처리 시스템 (Wafer Handling System) 은 자동 웨이퍼 로드 및 언로드 프로세스를 지원하는 높은 처리량을 위해 설계되었습니다. 이 장치는 인체 공학적 (ergonomic) 설계와 사용자 친화적 (user-friendly) 인터페이스를 통해 운영 프로세스에서 반도체 제조업체가 높은 수익률과 성능을 얻을 수 있도록 쉽게 작동 및 유지 관리할 수 있습니다. 전반적으로 NIKON NSR S636E는 고급 반도체 석판화 (lithography) 애플리케이션을 위한 최첨단 솔루션으로 최첨단 집적 회로의 제작을 위한 탁월한 정밀도, 안정성, 생산성을 제공합니다. 고급 광학 기계, 정밀 웨이퍼 스테이지 (precision wafer stage), 스마트 자동화 기능을 갖춘 이 웨이퍼 스테퍼는 반도체 업계의 석판화 (lithography) 기술과 드라이브 혁신의 경계를 밀어내려는 반도체 제조업체에 필수적인 도구입니다.
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