판매용 중고 NIKON NSR S610C #9207261
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ID: 9207261
빈티지: 2007
ArF Immersion scanner
Resolution: ≦ 45 nm
NA: 1.30
ArF Excimer laser
Reduction ratio: 1:4
Maximum exposure range: 26mm x 33mm
Overlay accuracy: ≦ 6.5 nm
Throughput: ≧ 130 Wafers / hour (300mm) 76 shots
Main chamber
Loader chamber
SMIF Port
FOUP Port
Loader rack
Front rack
Rear rack
Sub temperature controller
Air conditioner
Amplifier rack
Power supply module
AFB
LFU
2007 vintage.
NIKON NSR S610C Stepper는 사진에 대한 진정한 통합 접근 방식을 통합 한 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 스테퍼는 기존의 웨이퍼 스테퍼보다 더 짧은 노출 시간을 사용할 수있는 빠른 2 단계 이미징 시스템을 사용합니다. NSR S610C Stepper는 고성능 4 인치 프로젝션 렌즈를 사용하여 왜곡을 최소화하고 수차를 줄여 고품질 출력을 제공합니다. 이 스테퍼 (stepper) 는 또한 다양한 맞춤형 프로세스를 사용할 수있는 독특한 다이킹 (dicing) 기능을 제공합니다. NIKON NSR S610C Stepper에는 웨이퍼 방향 및 위치에 대한 특정 정보를 제공하는 다중 필드 직접 정렬 센서가 있습니다. 또한 이 스테퍼 (stepper) 는 다양한 노출 용량 계산 모드 옵션을 제공하여 사용자가 출력 품질을 쉽게 조정할 수 있습니다. NSR S610C 스테퍼 (Stepper) 는 고급 메카트로닉 (mechatronic) 설계를 사용하여 빠르고 정확하게 정렬하여 사이클 시간을 줄일 수 있습니다. NIKON NSR S610C 스테퍼 (Stepper) 는 뛰어난 반복성을 제공하는 통합 포커스 서보 제어 모듈을 자랑하며, 전체 웨이퍼에 걸쳐 정확하게 제어되는 초점 깊이를 보장합니다. NSR S610C Stepper는 최소한의 입자 도입을 위해 오존과 입자를 제어하기위한 고급 시스템을 갖추고 있습니다. 이 스테퍼는 웨이퍼 처리의 최적의 조건을 보장하기 위해 27 ° C - 45 ° C 범위의 다양한 수온을 제공합니다. NIKON NSR S610C Stepper는 또한 각 웨이퍼 배치에 저장할 수있는 광범위한 작업 매개 변수를 갖춘 PBP (Part-by-Part) 프로세스 제어를 제공합니다. NSR S610C Stepper는 매우 정확한 SU-8 레이저 코드 저항성 및 원격 감지 기능을 통합하여 마스킹 프로세스를 더욱 쉽게 제어할 수 있습니다. 이 스테퍼는 완전히 차폐 된 플라즈마 배기 시스템 (plasma exhaust system) 을 갖춘 환경 적으로 지속 가능한 디자인을 사용하여 웨이퍼 처리 중 유해 물질의 사용을 완화합니다. NIKON NSR S610C Stepper는 수많은 애플리케이션별 및 맞춤형 모듈을 갖춘 모듈화 기능을 제공합니다. 이 스테퍼 (stepper) 를 사용하면 광범위한 소재 및 크기로 여러 기판을 처리할 수 있으므로 하이엔드 웨이퍼 (wafer) 생산 요구 사항을 효율적으로 완수할 수 있습니다. NSR S610C 스테퍼 (Stepper) 는 높은 정확도, 속도 및 품질을 제공하도록 설계되어 사진 해독 응용 프로그램을위한 최고의 웨이퍼 스테퍼입니다.
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