판매용 중고 NIKON NSR S610C #293633334

NIKON NSR S610C는 리토 그래피 응용 프로그램을 위해 설계된 웨이퍼 스테퍼로, 최대 100 나노 미터 이하의 기능을 정확하고 정확하게 노출해야합니다. 고배율, 다층 렌즈, 레이저 간섭계 자동 초점, 고품질 반도체 칩의 정확하고 반복 가능한 생산을 보장하는 독특한 쿼드 에어 베어링 (Quad Air Bearing) 시스템을 사용하는 6축 장비입니다. NSR S610C 는 고출력 조명 (lumination) 및 초고속 이미지 캡처 기능을 사용하여 다양한 노출 시간에 걸쳐 반복 가능하고 정확한 출력을 제공합니다. 이 장치는 또한 이미지 정확도를 극대화하고 낙인 찍기 오류를 최소화하기 위해 탁월한 스캐닝 (through-focus) 이미지 스캔을 제공합니다. 또한 패턴 인식 및 결함 감지 기능이 완전히 보완되어 있습니다. NIKON NSR S610C는 1 ~ 90 피코 초 범위의 노출 속도가 가능하며, 이는 초당 10,000 회 노출에 해당합니다. 굴절률이 높은 서피스로부터 반사율이 높은 인터페이스까지 다양한 유형의 저항을 노출 (exposing) 할 수 있습니다. 이 기계는 또한 고정밀 패턴 충실도 검사 및 프로세스 제어를 위해 고급 산란법 (advanced scatterometry) 과 같은 고급 도량형 도구를 지원합니다. NSR S610C에는 실시간 공중 이미지 검사, 직접 웨이퍼 검토, 흐림 (blur) 측정, 에지 감지 등 다양한 프로세스 모니터링 및 제어 기능이 장착되어 있습니다. 또한 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 를 통해 사용자에게 프로세스 제어를 위한 친숙하고 사용하기 쉬운 플랫폼을 제공합니다. NIKON NSR S610C는 다양한 운영 마스크, 사전 설정, 실시간 프로세스 분석/모니터링 (옵션) 등 고급 사용자 정의 옵션을 제공합니다. 에셋은 광각 렌즈 (wide-angle lense), 유체 렌즈 스캐닝 시스템 (fluidic-lens scanning system), 특수 용도 렌즈 조합 등 다양한 교환 가능한 광학으로 구성 할 수 있습니다. 또한 원격 초점 조정, 노출 조정, 원격 모니터링, 노출 매개변수 조정 등 원격 운영 기능이 통합되어 있습니다. NSR S610C는 리토그래피 애플리케이션에 이상적인 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 로, 최대 100 나노미터 이하의 기능을 반복적이고 정확하게 노출해야 합니다. 신뢰할 수 있는 성능, 고급 사용자 정의 기능, 직관적인 GUI (Graphical User Interface) 를 통해 모든 석판화 실험실 또는 프로덕션 라인에 귀중한 자산이 될 수 있습니다.