판매용 중고 NIKON NSR S322F #293817907

NIKON NSR S322F는 NIKON 독점 이미징 기술에서 작동하는 차세대 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 장비 는 "포토리토그래피 '가 적용 된" 웨이퍼' 의 각 층 의 노출 을 정확 히 제어 하도록 설계 되었다. 이 기술은 통신, 자동차, 기타 가전 제품 등 다양한 응용프로그램을 위해 집적회로 (IC) 제작에 널리 사용됩니다. NSR S322F 는 디바이스 제조업체에 최고의 성능을 제공하기 위해 프로세스 정확도, 정밀 작동, 환경 부하 감소 등의 기능을 크게 향상시켰습니다 (영문). 이 시스템은 고해상도, 풀 프레임 이미징 (full-frame imaging) 과 같은 최신 렌즈 (in-lens) 자동화 및 이미징 기술을 사용하여 최소 선 너비와 간격 정확도에 대한 뛰어난 이미지 충실도를 보장합니다. 또한 스텝퍼 (stepper) 는 광범위한 노출 매개변수를 제공하여 사용자가 특정 프로세스에 맞게 장치를 사용자 정의할 수 있도록 합니다. 자체 스캔 (Self Scanning) 및 열 제어 기계 (Thermal Control Machine) 는 정렬 단계와 스캔 거울의 동작이 매우 정확하고 안정적인지 확인합니다. NIKON NSR S322F는 최대 노출 필드 크기가 22mm 인 0.3 ~ 1.0 µm 범위의 임계 크기 (CD) 를 가진 IC를 위해 설계되었습니다. 내부/외부 스캔 반복 기능을 위해 0.025äm의 높은 정확도 도량형 기능으로, 크기가 1 äm만큼 작은 대상을 처리 할 수 있습니다. 게다가, 이 도구는 높은 처리량을 제공하여 처리 속도가 매우 빠르며, 시간당 최대 25 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 또한, 컴팩트한 설계를 통해 기존 시스템 및 작업공간에 쉽게 통합할 수 있도록 구성할 수 있습니다. NSR S322F는 탁월한 환경 보호로 제작되었습니다. 그것 의 튼튼 한 구조 는 그 환경 에서 나온 입자 들 로부터 보호 해 주며, 밀폐 된 "인테리어 '의 설계 는 수술 내내 청결 을 유지 한다. 이 자산에는 프로세스 챔버 (process chamber) 내에서 화학 물질을 추적하여 유지 보수 요건과 비용을 줄이는 모니터링 모델 (monitoring model) 이 포함되어 있습니다. 이 장비는 또한 산소 수준 환경을 감소시켜 우수한 기질 접착을 보장합니다. 마지막으로, NIKON NSR S322F에는 프로세스의 이상을 감지 할 수있는 신뢰할 수있는 감지 시스템이 장착되어 있습니다. 이 장치는 최소한의 수동 개입으로 디바이스의 성능을 유지하는 데 도움이 됩니다. 또한, 이 기계는 원치 않는 사건을 조기에 인식하여 오염과 결함을 예방할 수 있습니다. 따라서, 이 도구는 높은 처리량과 짧은 총 주기 시간을 보장합니다.