판매용 중고 NIKON NSR S322F #293665226

ID: 293665226
웨이퍼 크기: 12"
Scanner, 12" Wavelength: 193 nm Lens-NA: 0.92 Exposure field: 26 x 33 mm Reduction ratio: 1:4 Resolution: ≤ 65 nm Single machine overlay: ≤ 2 nm Mix and match overlay: ≤ 5 nm Throughput: 300 mm Lens data included.
NIKON NSR S322F 는 혁신적인 웨이퍼 스테퍼로서, 반도체 제작을 위한 광범위한 기능을 제공합니다. 이 단계 및 반복 정렬 장비는 고해상도 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 어플리케이션을 위해 설계되었으며 자동 웨이퍼 리소그래피 (automated wafer lithography) 의 요구 사항을 위해 특별히 설계된 최초의 스테퍼입니다. 뛰어난 현장 평평, 표면 거칠기, 고해상도 이미징 기능을 제공하는 NIKON "i" 시리즈 옵틱을 사용합니다. NSR S322F 는 최대 200mm 직경의 웨이퍼 크기 (현재 웨이퍼 제작에 사용할 수 있는 최대 직경) 를 지원합니다. 또한 전체 이미지 캡처 및 스티칭, 부스트 모드, 위상 칠 (phase fill) 기능 등 고급 기능을 갖춘 4 인치 비전 시스템도 갖추고 있습니다. 또한 ADR (Build-in Automated Defect Review) 장치를 사용하면 배송되기 전에 Wafer 의 결함 또는 불일치를 감지하고 수정할 수 있습니다. NIKON NSR S322F는 또한 0.5 마이크로 미터의 정렬 정확도로 높은 기하학적 정확도를 갖습니다. 즉, 왜곡이나 왜곡 관련 효과 없이도 크고 정확한 형태의 컴포넌트를 생성할 수 있습니다. 또한, 이 스테퍼는 8 인치 또는 12 인치 마스크로 시간당 최대 900 개의 웨이퍼를 처리할 수 있으며, 광학 빔 크기가 0.4 미크론 인 최대 0.5 미크론의 조리개 크기를 제공합니다. 마지막으로, NSR S322F 는 에너지 효율이 높은 광 소스로 설계되어 운영 중 안정성과 에너지 절감 효과를 높여줍니다. 이 스테퍼 (stepper) 는 또한 최적의 해상도에 적합한 온도 제어를 제공하여, 고온 상태에서도 쉽게 기계의 초점을 조정할 수 있습니다. 또한 중앙 집중식 제어 도구 (Central Control Tool) 를 통해 의도된 스테퍼 매개변수에 쉽게 액세스할 수 있습니다. 이렇게 하면 웨이퍼가 가장 효율적인 방식으로 처리되어 최적의 성능 (Performance) 과 제품 품질 (Product Quality) 을 얻을 수 있습니다.
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