판매용 중고 NIKON NSR S206D #293817917

NIKON NSR S206D
ID: 293817917
KrF Scanner Numerical Aperture (NA): 0.82 Resolution: 130 nm DCO:  20 Throughput (WPH): 88-147.
NIKON NSR S206D는 정확한 노출 제어 및 뛰어난 이미지 품질을 제공하도록 설계된 고성능 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 기계는 photomask 노출, photolithography 및 IC 제작과 같은 리소그래피 응용 분야에 이상적입니다. 가장 까다로운 반도체 프로세스 및 장치 제작의 요구를 충족하도록 설계되었습니다. 스테퍼는 NIKON 독점 Flex Focus Lens 및 새로운 RD (Reduced Dimensioning) Aligner와 같은 고급 기술을 사용하여 정확한 오버레이 정확성과 고해상도 리소그래피 결과를 제공합니다. NSR S206D는 전통적인 포토 마스크 기판과 함께 유리, 실리콘, 사파이어 등 다양한 기판을 수용 할 수 있습니다. 또한 5x5 미크론 (micron) 및 429x429micron (대용량) 의 광범위한 노출 필드를 가지고 있으므로 복잡한 패턴의 정확한 리소그래피 노출이 가능합니다. NIKON NSR S206D는 또한 NIKON ISM (Exclusive Interval Step Mode) 정렬 시스템을 사용하여 노출 및 정렬 프로세스를 정확하게 조정하여 둘 사이의 더 큰 상관 관계를 제공합니다. 또한 NSR S206D 는 고급 프로세스 제어/관리 소프트웨어 제품군을 갖추고 있으며, 이를 통해 리소그래피 (lithography) 노출 및 기타 프로세스를 제어 및 모니터링할 수 있습니다. 또한 이 소프트웨어를 사용하면 리소그래피 노출 (lithography exposure) 및 기타 프로세스를 최적화하여 최대 수율과 정확도를 달성할 수 있습니다. NIKON NSR S206D에는 업계 최고의 드리프트 보상 시스템이 장착되어 있어 보다 정확하고 정확한 리소그래피 (lithography) 결과를 얻을 수 있습니다. 마지막으로, NSR S206D 는 탁월한 안정성, 정확성, 생산성을 제공하도록 설계되어 가장 까다로운 반도체 프로세스 및 디바이스 구성 애플리케이션에 적합합니다. 고급 Exposure Controller 및 Process Controller를 사용하면 정확한 노출 제어, 노출 문제 제거, 노출 시간 감소, 고해상도 리소그래피 노출 등의 효과를 얻을 수 있습니다. 또한 다양한 기능, 독보적인 구성 옵션, 뛰어난 화질 (image quality) 을 통해 가장 다양하고 정확한 웨이퍼 스테퍼 중 하나를 사용할 수 있습니다.
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