판매용 중고 NIKON NSR S204B #293627299
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ID: 293627299
DUV Scanner
CYMER ELS 6400
Exposure power: 900 mW/cm²
Illumination uniformity: ±2%
Wafer flatness: 3.0 µm
Recticle accuracy: 0.4 - 0.8 mm
Reticle rotation: |x| + 3σ, 0.02 µm
Stepping precision: 3σ, 0.025 µm
Backlash precision: 3σ, 0.025 µm
Distortion: ≤ ±0.025 µm
LSA Overlay: 3δ ≤ 0.045 µm
FIA Overlay: 3δ ≤ 0.045 µm
Inclination: ≤ 0.2 µm
Wafer pre-alignment: ≤ 15 µm.
NIKON NSR S204B는 포토 마스크, 레티클, 평면 패널 디스플레이 및 고해상도 검사 기판 생산을 위해 설계된 고성능, 단계적 및 반복 웨이퍼 스테퍼 장비입니다. 최대 패턴 크기가 12mm x 12mm 인 0.37nm의 가장 정확한 해상도 중 하나입니다. 이 기계는 여러 개의 레티큘을 동시에 처리 할 수 있으므로 대형 포토 마스크 (photomask), 레티클 (reticles) 및 평면 패널 디스플레이 (flat panel display) 의 생산에 적합합니다. NIKON NSR-S204B에는 3- 미러 투영 정렬 시스템, 최적화된 스캔 알고리즘 (이미지 분할 또는 중첩 없음), 고급 정렬 보호 기능이 있습니다. 이 단위로 달성된 정확한 정렬 정확성 (Alignment Accuracy) 은 무결성을 보장하며 Photomask 배치 단계에 따라 매우 쉽게 정렬할 수 있습니다. 최대한의 처리량 (throughput) 과 생산성을 달성하기 위해 S204B 는 노출 (exposure) 프로세스를 가속화하고 필드 영역에 추가 웨이퍼를 위한 고속 회전 (rotation) 단계를 제공하여 여러 개의 레티클을 동시에 노출시킬 수 있습니다. 이를 통해 생산의 효율성과 안정성이 크게 증가합니다. 이 기계는 또한 10 배의 내부 확대 감소 (internal magnization reduction) 와 확장 된 초점 깊이 (focus of focus) 를 통해 이미지 감지 손실없이 0.75m 이상의 스텝 높이를 허용합니다. 또한, 반음계 수차 보정 도구를 사용하면 거칠고 미세 조정이 가능합니다. 또한 S204B는 고급 에지 표현 (Edge Representation) 기술을 제공하여 검사 프로세스의 정확성을 높입니다. SNR 기술 (SNR Technology) 은 비선형 성을 고려하여 에지 정보 및 모양 왜곡을 측정하며, 기존의 스텝 앤 반복 스테퍼보다 더 정확한 결과를 제공합니다. S204B 는 오차로부터 연산자를 보호하기 위해 내부 오류 감지 (inbilt error detection) 및 예방 시스템 (prevention system) 을 갖추고 있어 운영 중 예기치 않은 간섭이나 오작동을 제대로 처리할 수 있습니다. 이 자산은 또한 내장된 지능형 (Intelligent) 정렬을 제공하여 정확한 해상도와 빠른 포지셔닝을 가능하게 합니다. 결론적으로, NSR S 204 B는 포토 마스크, 레티클, 평면 패널 디스플레이 및 고해상도 검사 기판 생산을 위해 설계된 고성능, 다기능 웨이퍼 스테퍼 모델입니다. 고급 미러 정렬 장비, 향상된 스캐닝 기능 (Scanning Capability), 향상된 속도 및 향상된 검사 정확도를 제공함으로써, S204B는 모든 생산 프로세스에 필수적인 강력한 도구입니다. 이 시스템은 이미지 무결성 저하 없이 최고 수준의 정확도와 처리량을 제공합니다.
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