판매용 중고 NIKON NSR S204 #293593219

NIKON NSR S204는 고해상도 마이크로 칩의 안정적인 생산을 위해 설계된 고급 반도체 리소그래피 장비입니다. 이 시스템은 I-Line 석판화 프로젝션 광학을 기반으로하며 NIKON 고급 NSR 노출 기술을 사용하여 웨이퍼 제작 프로세스에서 탁월한 정확성과 반복 성을 달성합니다. NSR S204는 0.05äm의 반복 정확도와 최소 노출 헤드 투 헤드 거리 (0.05äm + 0.2õm) 로, 고해상도 응용 분야에 이상적인 도구입니다. NIKON NSR S204 는 다양한 노출 모드 (Exposure Mode) 와 제어 가능 매개변수 (Controllable Parameter) 를 제공하는 완전한 노출 기능을 제공합니다. 이 장치에는 최고의 해상도, 정확도, 속도를 제공하는 고급 소프트웨어 도구 (advanced software tools) 및 하드웨어 구성 요소 모음이 포함되어 있습니다. 이 기계는 또한 노출 프로세스 (Exposure Process) 를 완벽하게 제어할 수 있으며, 사용자가 노출 설정을 미세하게 조정하고 고품질 (High Quality) 결과를 얻을 수 있습니다. NSR S204에는 LFOV (High Sensitivity Linear Field of View) 영역 스캔 유형 CCD 이미지 센서와 2 차원 스크롤 모드 (TDSM) 스테이지가 장착되어 있습니다. 이 조합을 통해 빠르고 반복 가능한 스캔과 뛰어난 반복 정확도를 얻을 수 있습니다. 두 요소의 조합은 운영자가 거의 필요하지 않은 완전 자동화 (Fully Automated) 프로세스를 제공합니다. 이 도구의 파장 범위는 365nm-440nm이며 파장 정확도가 뛰어납니다. 에셋은 빠른 설정 시간 (setting time) 을 제공하고 곡선 (curved) 필드 모델을 사용하여 다운타임을 줄입니다. NIKON NSR S204 의 기능을 활용하면 낮은 프로세스에서 복잡한 프로세스 리소그래피 (lithography) 에 이르는 다양한 애플리케이션에 적합합니다. NSR S204 에는 wafer 정렬, wafer 로드 및 언로드, 렌즈 자동 초점 등의 일련의 자동 기능이 포함되어 있습니다. 또한 포괄적인 모니터링 장비가 함께 제공되어 실시간 피드백 (feedback) 및 성능 보고 기능을 제공합니다. 오염의 가능성을 최소화하기 위해 포괄적인 안전 및 연동 시스템이 포함됩니다. NIKON NSR S204는 안정적이고 일관된 고해상도 웨이퍼 구성 프로세스를 위한 완벽한 툴입니다. 첨단 기능을 갖춘 이 제품은 모든 반도체 제작 공정에 매우 유용한 자산입니다 (영문).