판매용 중고 NIKON NSR G6 #9284156

NIKON NSR G6 웨이퍼 스테퍼는 반도체 장치 제작을위한 고급 정밀 리소그래피 장비입니다. 이 시스템은 웨이퍼, 포토 마스크, 디스플레이 응용 프로그램을위한 대형 기판, 3D 미세 구조 등을 이미징 할 수 있습니다. 고급 웨이퍼 레벨 설계 기술의 도움으로, 이 장치는 광범위한 전기, 기계, 광학 및 전기 광학 장치, 특히 반도체 칩을위한 제조 및 패턴 미시적 설계 (fabricate and pattern microscopic design) 를 갖추고 있습니다. 이 기계는 0.52 NA 설계로 뛰어난 패턴 균일성을 보장합니다. 또한 직관적인 사용자 인터페이스와 대형 스테이지 (stage) 를 갖춘 에너지 절감 (energy-saving) 설계를 통해 높은 스루풋과 뛰어난 반복성을 제공합니다. 정교한 노출 모드는 스테이지 타임이 최적화 된 최대 1.2 nm의 정밀도를 갖습니다. 또한 NSR G6 는 통합 진공 열 및 교정 기술을 통해 안정성을 강화합니다. 이렇게 하면 공구가 일관된 품질 패턴을 생성하고, 도전적인 에칭 (etching) 및 패턴 (patterning) 응용 프로그램을 처리할 수 있습니다. NIKON NSR G6 는 고급 정렬 및 Aligment Control 기능을 갖춘 가장 정확한 레이어 처리를 위해 설계되었습니다. CD 균일성을 최적화하면서 한 단계로 레벨링, 포커스, 이미지를 모두 달성할 수 있습니다. 또한, G6는 지속적인 최적화를 위해 실시간 이미징 피드백을 제공하는 통합 도량형 시스템을 자랑합니다. 이 자산에는 가장 높은 처리량과 생산량 (품질) 을 보장하는 능동형 (de-cap) 및 슬립 저항성 (slip-resistance) 기술도 있습니다. 뛰어난 노출 모델 덕분에 NSR G6는 통합 ICP (Inductively Coupled Plasma) 소스와 입자 오염 제어를 특징으로하며 잠재적 인 사양 외 변동성을 줄입니다. 따라서 사용자가 가장 까다롭고 복잡한 장치를 일관되게 처리할 수 있습니다. NIKON NSR G6 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 는 비용의 일부분에서 다른 스테퍼에 비해 정밀도 및 일관성을 제공합니다. 높은 정확도, 높은 생산성, 신뢰성을 필요로 하는 모든 애플리케이션에 적합한 솔루션입니다. 또한 NSR G6 는 성능과 비용 효율성을 결합하여 모든 디바이스 구성 요구 사항에 가장 적합한 솔루션이 됩니다.