판매용 중고 NIKON NSR 2205 i12D #9300305

NIKON NSR 2205 i12D 웨이퍼 스테퍼는 12 nm 게이트 길이의 치수가있는 회로를 생산하도록 설계된 최고의 석판화 도구입니다. 이 장비는 최대한의 위치 정확성과 나노 스케일 반복성을 달성하기 위해 고급 12 축 단계를 통합합니다. 최대 스테이지 이동 속도는 200mm/s이며 스테이지 위치 정확도는 6nm입니다. 그것은 '고해상도 스테이지 간섭계' 와 리소그래피를위한 '대화식 레이저 다이오드 투영' 세트를 사용하는 독특한 렌즈없는 이미징 기술을 갖추고 있습니다. 이 조합을 사용하면 더 넓은 피쳐 크기에서 보다 정확하고 정확한 이미징을 사용할 수 있으며, 10 nm 공정 노드에서 60 라인 (line) 및 공간 해상도 (space resolution) 를 달성할 수 있습니다. NIKON NSR-2205I12D는 고정밀도, 고속 스캔 XY 단계를 활용하여 전체 웨이퍼 내에서 탁월한 오버레이 정확성을 보장합니다. 통합 산란계 (scatterometer) 기능은 웨이퍼 표면의 지형 변형을 효과적으로 감지하여 매우 낮은 왜곡과 결함이 필요한 고성능 장치를 생성 할 수 있습니다. 이 시스템은 업계 최고의 10kW 최고 수준의 고반사율 레이저 조사 장치를 통해 전체 웨이퍼 (wafer) 에 걸쳐 보다 빠르고 정밀도가 높은 이미징을 구현하여 최고의 생산성과 최고 수준의 장치 성능을 제공합니다. 처리량을 극대화하고 업계 선두의 균일성을 달성하기 위해 빔을 여러 개의 빔 (beam) 으로 나누면서 전체 웨이퍼 (wafer) 에 걸쳐 일관된 성능을 유지할 수 있습니다. 또한 NSR-2205I 12D 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 는 고급 자동화를 갖춘 사용자 친화적 시스템 아키텍처와 더불어 장치 성능을 향상시키고 결함을 줄이기 위한 통합 정렬 마커를 갖추고 있습니다. 직관적인 그래픽 소프트웨어 제품군은 고급 석판 응용 프로그램뿐만 아니라 OPC 모델링을 지원합니다. 사용 편이성과 안정성을 보장하기 위해 이 툴에는 다양한 프로세스/도량형 (metrology) 보증 툴이 포함되어 있습니다. 또한 다양한 구성의 여러 모델이 있어 크기와 재료가 다른 웨이퍼 (wafer) 에 적합합니다. NSR-2205I12D 웨이퍼 스테퍼에는 이러한 기능 외에도 설치, 교육, 지원 등 다양한 서비스 옵션이 제공됩니다. 이것은 탁월한 성능과 신뢰성을 가능하게하며, 소규모 프로세스를위한 정밀 리소그래피 (lithography) 애플리케이션에 이상적인 선택입니다.