판매용 중고 NIKON NSR 2205 i11D #9237616

ID: 9237616
Stepper Resolution: 350nm.
NIKON NSR 2205 i11D 웨이퍼 스테퍼는 고도의 고밀도 리소그래피 장비입니다. 반도체 기판에서 정확한 패턴을 만드는 데 사용됩니다. 이 시스템은 스테이지, 레이저, 스테핑 모터 및 광학 프로젝터의 4 가지 하위 시스템으로 구성됩니다. 스테퍼 기술을 사용하여 웨이퍼 스케일에서 정확한 패턴 부품을 만듭니다. 이 장치는 24 개의 동시 웨이퍼 로드 (wafer loading) 및 언로드 (unloading) 를 위해 설계되었습니다. NIKON NSR-2205I11D 웨이퍼 스테퍼에는 스테이지와 레이저 소스가 장착되어 있습니다. 이 스테이지는 정확한 패턴 정렬 및 제작을위한 정밀 플랫폼을 제공합니다. "레이저 '원 은 여러 가지 파장 을 가진 빛 을 생성 하는 데 사용 되는데, 그것 은 노출 시간 을 줄이고" 패턴' 의 정확도 를 향상 시키는 데 사용 된다. 스테핑 모터는 스테이지와 레이저를 움직이는 데 사용됩니다. 스테핑 모터는 빠른 속도와 정확성으로 웨이퍼에 정확한 패턴을 생성 할 수 있습니다. 스테핑 모터는 여러 축 컨트롤에 의해 제어되며, 이 컨트롤을 사용하면 웨이퍼 스케일 (wafer scale) 에서 웨이퍼 (wafer) 를 정확하게 찾고 패턴화할 수 있습니다. 스테핑 모터는 또한 자동 높이 조정이 있으며, 고해상도 모델에 대한 자동 상호 접속성을 제공합니다. 광학 프로젝터는 웨이퍼에 패턴을 투영하는 데 사용됩니다. 그것 은 섬유질 광학 장치 와 정밀 광학 부품 으로 구성 되어 있어서 훌륭 한 "패턴 '을 만들어 낸다. 또한 높은 숫자 조리개 (NA) 가 있으며보다 정확한 패턴과 높은 해상도를 제공하는 데 사용됩니다. 이 기계는 통합 정렬 (alignment) 및 웨이퍼 매핑 시스템 (wafer mapping system) 을 갖추고 있어 미세 정렬을 위해 웨이퍼를 정확하게 배치할 수 있습니다. 이 도구는 또한 텍스트 인쇄, 미세 선 생성, 전도성 패턴 생성, 건식 에칭 (dry etching) 등 다양한 패턴 작업 작업을 수행 할 수 있습니다. NSR 2205I11D Wafer Stepper에는 자동 초점, 높은 동적 성능, 25 ° m 스캔 해상도, 전송 스캔 및 반투명 레이저 노출과 같은 고급 기능이 있습니다. 또한 다양한 맞춤형 소프트웨어/하드웨어 툴을 사용하여 웨이퍼 (wafer) 처리를 용이하게 합니다. 이 모든 것이 NSR-2205 I11D 웨이퍼 스테퍼를 강력하고 정밀한 석판화 자산으로 만듭니다.
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