판매용 중고 NIKON NSR 2205 i11D #9236907

NIKON NSR 2205 i11D 는 최첨단 웨이퍼 스테퍼로서, 반도체 장치 구성 프로세스에서 매우 정밀하고 안정적인 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 시력 유도 고급 정렬 기술을 활용할 수 있으며, 50 nm 이하의 정밀도 및 < 3 m 이하의 오버레이 정확도를 제공합니다. 또한 NIKON Advanced Illumination Correction Technology를 통해 현지 조명을 자동으로 감지하고 균일성을 유지함으로써 생산성을 향상시킬 수 있습니다. 또한 통합 필드 내 스캐너 및 EDTP (Enhanced Defocus Transfer Protocol) 를 사용하면 5초 미만의 매우 빠른 노출 시간을 허용합니다. NIKON NSR-2205I11D는 깊은 자외선 석판화, 간섭 석판화, 임플란트 석판화, 직접 쓰기 석판화 등 모든 유형의 반도체 프로세스를 지원할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 탁월한 옵틱스 (optics) 와 마이크로 스테핑 (micro-stepping) 정확성으로 인해 빠른 장치 제작 프로세스에서 높은 성능을 얻을 수 있습니다. NSR 2205I11D 는 건조 (dry) 및 침수 (immersion) 리소그래피 (lithography) 에도 사용할 수 있으며, 사용 가능한 슬릿 유형이 다양하여 최종 사용자에게 매우 유연합니다. 또한 NSR 2205 I 11 D는 실시간 초점 모니터 (Real-time Focus Monitor) 와 같은 몇 가지 운영 혁신을 제공하여 정확도를 ± 1nm로 낮추고 Trend Pattern Detection을 통해 노출 오류를 조기에 감지할 수 있습니다. 이 시스템에는 자동 웨이퍼 프로세스 및 프로그래밍, DAS 또는 델타 자동 검색 (Delta Auto Search) 을 위해 NIKON Graphic Language (NGL) 가 장착되어 절대 정렬이 가능합니다. 또한 웨이퍼 스테퍼는 NIKON 고유 한 Helical Micro-step 기술을 자랑하며, 이로 인해 노출 된 왜곡이 줄어들고 생산성이 향상됩니다. 성능 측면에서 NSR 2205 I11 D는 다양한 우수한 결과를 제공합니다. Rayleigh Interval Optimizer는 기존 조명 솔루션에 비해 1.5배 ~ 2배 향상된 처리량을 제공합니다. 웨이퍼 스테퍼의 최대 필드 크기는 105.9mm (0.6X 배율) 및 최소 필드 크기는 4.1mm (4X 배율) 입니다. 스텝 앤 리피트 해상도 (Step and Repeat Resolution) 범위는 0.112m까지 달성 할 수 있으므로 매우 미세한 해상도를 제공합니다. 무엇보다도, NIKON NSR-2205 I11D 는 디바이스 제작에서 탁월한 성능과 더불어, EMC 가 이 분야에서 많이 추구하는 다양한 기능과 향상된 성능을 제공합니다. 대규모 생산에 사용되든, 소규모 프로토타입 및 개발에 사용되든, 새로운 기능 및 기술의 NIKON NSR-2205 I11 D 팩터로, 최종 사용자에게 탁월한 성능과 안정성을 제공합니다.